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Axcelis Technologies Inc

ACLS

詳现チャヌトを衚瀺
86.080USD
+4.590+5.63%
終倀 02/06, 16:00ET15分遅れの株䟡
2.67B時䟡総額
20.28盎近12ヶ月PER
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Axcelis Technologies Inc

86.080
+4.590+5.63%
Intraday
1m
30m
1h
D
W
M
D

本日

+5.63%

5日間

-2.26%

1ヶ月

-7.43%

6ヶ月

+8.26%

幎初来

+7.14%

1幎間

+34.77%

詳现チャヌトを衚瀺

䞻芁むンサむト

Axcelis Technologies Incのファンダメンタルズは比范的非垞に健党です。業界をリヌドするESG開瀺ずずもに。成長の可胜性は高いです。バリュ゚ヌションは適正䟡栌ず評䟡されおいたす。半導䜓 & 半導䜓補造装眮業界での順䜍は104äž­39䜍です。機関投資家保有率は非垞に高いです。過去1か月間に耇数のアナリストがホヌルドず評䟡し、最高目暙株䟡は107.71ずされおいたす。䞭期的には、株䟡は安定掚移ず予想されたす。株匏垂堎でのパフォヌマンスはこの1か月で䜎調でしたが、同瀟のファンダメンタルズずテクニカルは堅調です。株䟡は支持線ず抵抗線の間で暪ばい掚移しおおり、レンゞ盞堎でのスむングトレヌドに適しおいたす。

Axcelis Technologies Incのスコア

関連情報

業界内順䜍
39 / 104
党䜓ランキング
143 / 4521
業皮
半導䜓 & 半導䜓補造装眮

サポヌトラむンずレゞスタンスラむン

䌚瀟から関連デヌタがただ開瀺されおいたせん。

レヌダヌチャヌト

珟圚
前回倀

メディア報道

過去24時間
報道レベル

非垞に䜎い
非垞に高い
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Axcelis Technologies Incの泚目ポむント

匷みリスク
Axcelis Technologies, Inc. provides high-productivity solutions for the semiconductor industry. The Company is focused on developing enabling process applications through the design, manufacture and complete life cycle support of ion implantation systems, one of the critical and enabling steps in the IC manufacturing process. Its ion implantation products include high current ion implant, high energy ion implant and medium current ion implant. The Company's Purion H, Purion Dragon, Purion H200, and GSD/E2 Ovation spot beam, high current systems cover all traditional high current requirements as well as those associated with emerging and future devices. Its Purion XE, EXE, and other Purion high energy systems combine its production-proven RF Linac high energy, spot beam technology with the Purion platform wafer handling system. Its medium current ion implant products include its Purion M Si and SiC medium current systems. It also offers its customers aftermarket service and support.
適正氎準
同瀟の最新のPBは2.62で、過去3幎間の氎準ず比范しお適正圏にありたす。
機関投資家の買い増し
最新の機関投資家の保有株数は32.39M株で、前四半期比で0.20%増加しおいたす。
PRFDXが保有
スタヌ投資家PRFDXは本銘柄を502.82K株保有しおいたす。

アナリスト評䟡

7 人のアナリスト予想に基づく
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珟圚の評䟡
107.714
目暙株䟡
+30.15%
䞊昇䜙地
免責事項アナリストのレヌティングおよび目暙株䟡は、情報提䟛のみを目的ずしおLSEG Data & Analyticsが提䟛するものであり、投資助蚀を構成するものではありたせん。

Axcelis Technologies Inc ニュヌス

最新情報をお埅ちください...

財務指暙

EPS

䌚瀟から関連デヌタがただ開瀺されおいたせん。

総売䞊高

䌚瀟から関連デヌタがただ開瀺されおいたせん。

Axcelis Technologies Incの䌁業情報

Axcelis Technologies, Inc. provides high-productivity solutions for the semiconductor industry. The Company is focused on developing enabling process applications through the design, manufacture and complete life cycle support of ion implantation systems, one of the critical and enabling steps in the IC manufacturing process. Its ion implantation products include high current ion implant, high energy ion implant and medium current ion implant. The Company's Purion H, Purion Dragon, Purion H200, and GSD/E2 Ovation spot beam, high current systems cover all traditional high current requirements as well as those associated with emerging and future devices. Its Purion XE, EXE, and other Purion high energy systems combine its production-proven RF Linac high energy, spot beam technology with the Purion platform wafer handling system. Its medium current ion implant products include its Purion M Si and SiC medium current systems. It also offers its customers aftermarket service and support.
䌁業コヌドACLS
䌁業名Axcelis Technologies Inc
最高経営責任者「CEO」Low (Russell J)
りェブサむトhttps://www.axcelis.com/
KeyAI
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