SK海力士宣佈將業界首款量產型High NA EUV引進韓國利川M16工廠

金吾財訊 | SK海力士宣佈，已將業界首款量產型高數值孔徑極紫外光刻機（High NA EUV）引進韓國利川M16工廠。

High NA EUV 擁有比當前 EUV 更高的數值孔徑（NA），可大幅提升分辨率，能夠繪製當前最微細的電路圖案，預計將在縮小線寬和提升集成度方面發揮關鍵作用。

該設備與現有的EUV設備（NA 0.33）相比，其光學性能提升了40%，這一改進使其能夠製作出精密度高達1.7倍的電路圖案，並將集成度提升2.9倍。