tradingkey.logo


ASML Holding NV

ASML
î˜đ
āļ”āļđāđāļœāļ™āļ āļđāļĄāļīāđ‚āļ”āļĒāļĨāļ°āđ€āļ­āļĩāļĒāļ”

867.300USD

+53.430+6.56%
āļ›āļīāļ” 09/15, 16:00ETāļĢāļēāļ„āļēāļĨāđˆāļēāļŠāđ‰āļē 15 āļ™āļēāļ—āļĩ
341.09BāļĄāļđāļĨāļ„āđˆāļēāļ•āļĨāļēāļ”
32.01P/E TTM

Intraday
1m
30m
1h
D
W
M
D

āļ§āļąāļ™āļ™āļĩāđ‰

+6.56%

5 āļ§āļąāļ™

+10.95%

1 āđ€āļ”āļ·āļ­āļ™

+14.84%

6 āđ€āļ”āļ·āļ­āļ™

+21.47%

āļ•āđ‰āļ™āļ›āļĩāļˆāļ™āļ–āļķāļ‡āļ›āļąāļˆāļˆāļļāļšāļąāļ™

+25.14%

1 āļ›āļĩ

+6.24%

āļ”āļđāđāļœāļ™āļ āļđāļĄāļīāđ‚āļ”āļĒāļĨāļ°āđ€āļ­āļĩāļĒāļ”

āļ„āļ°āđāļ™āļ™āļŦāļļāđ‰āļ™ TradingKey

āļŠāļāļļāļĨāđ€āļ‡āļīāļ™: USD āļ­āļąāļ›āđ€āļ”āļ•āđ€āļĄāļ·āđˆāļ­ïžš2025-09-12

āļ‚āđ‰āļ­āļĄāļđāļĨāđ€āļŠāļīāļ‡āļĨāļķāļ

āļ›āļąāļˆāļˆāļąāļĒāļžāļ·āđ‰āļ™āļāļēāļ™āļ‚āļ­āļ‡āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—āļ„āđˆāļ­āļ™āļ‚āđ‰āļēāļ‡ āđāļ‚āđ‡āļ‡āđāļāļĢāđˆāļ‡āļĄāļēāļāļĄāļđāļĨāļ„āđˆāļēāļ›āļĢāļ°āđ€āļĄāļīāļ™āļ‚āļ­āļ‡āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—āļ™āļĩāđ‰āļ–āļ·āļ­āļ§āđˆāļē āļĄāļđāļĨāļ„āđˆāļēāļĒāļļāļ•āļīāļ˜āļĢāļĢāļĄāđāļĨāļ°āļāļēāļĢāļĒāļ­āļĄāļĢāļąāļšāļˆāļēāļāļŠāļ–āļēāļšāļąāļ™āļ–āļ·āļ­āļ§āđˆāļē āļŠāļđāļ‡āļĄāļēāļāļ•āļĨāļ­āļ”āļŠāđˆāļ§āļ‡ 30 āļ§āļąāļ™āļ—āļĩāđˆāļœāđˆāļēāļ™āļĄāļē āļ™āļąāļāļ§āļīāđ€āļ„āļĢāļēāļ°āļŦāđŒāļŦāļĨāļēāļĒāļĢāļēāļĒāđ„āļ”āđ‰āđƒāļŦāđ‰āđ€āļĢāļ•āļ•āļīāđ‰āļ‡āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—āļ™āļĩāđ‰āđ€āļ›āđ‡āļ™ āļ‹āļ·āđ‰āļ­āđāļĄāđ‰āļ§āđˆāļēāļœāļĨāļāļēāļĢāļ”āļģāđ€āļ™āļīāļ™āļ‡āļēāļ™āđƒāļ™āļ•āļĨāļēāļ”āļŦāļļāđ‰āļ™āļˆāļ°āļ­āđˆāļ­āļ™āđāļ­ āđāļ•āđˆāļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—āļĄāļĩāļ—āļąāđ‰āļ‡āļ›āļąāļˆāļˆāļąāļĒāļžāļ·āđ‰āļ™āļāļēāļ™āđāļĨāļ°āļŠāļąāļāļāļēāļ“āļ—āļēāļ‡āđ€āļ—āļ„āļ™āļīāļ„āļ—āļĩāđˆāđāļ‚āđ‡āļ‡āđāļāļĢāđˆāļ‡āļĢāļēāļ„āļēāļŦāļļāđ‰āļ™āļāļģāļĨāļąāļ‡āđ€āļ„āļĨāļ·āđˆāļ­āļ™āđ„āļŦāļ§āđƒāļ™āļāļĢāļ­āļšāđāļ„āļšāļĢāļ°āļŦāļ§āđˆāļēāļ‡āđāļ™āļ§āļĢāļąāļšāđāļĨāļ°āđāļ™āļ§āļ•āđ‰āļēāļ™ āļ—āļģāđƒāļŦāđ‰āđ€āļŦāļĄāļēāļ°āļŠāļģāļŦāļĢāļąāļšāļāļēāļĢāđ€āļ—āļĢāļ”āđāļšāļšāļŠāļ§āļīāļ‡āđƒāļ™āļāļĢāļ­āļšāļĢāļēāļ„āļē

āļ„āļ°āđ€āđ€āļ™āļ™āļŦāļļāđ‰āļ™î˜°î˜°

āļ‚āđ‰āļ­āļĄāļđāļĨāļ—āļĩāđˆāđ€āļāļĩāđˆāļĒāļ§āļ‚āđ‰āļ­āļ‡

āļ­āļąāļ™āļ”āļąāļšāđƒāļ™āļ­āļļāļ•āļŠāļēāļŦāļāļĢāļĢāļĄ
30 / 98
āļ­āļąāļ™āļ”āļąāļšāļĢāļ§āļĄ
125 / 4724
āļ­āļļāļ•āļŠāļēāļŦāļāļĢāļĢāļĄ
āđ€āļ‹āļĄāļīāļ„āļ­āļ™āļ”āļąāļāđ€āļ•āļ­āļĢāđŒāđāļĨāļ°āļ­āļļāļ›āļāļĢāļ“āđŒāđ€āļ‹āļĄāļīāļ„āļ­āļ™āļ”āļąāļāđ€āļ•āļ­āļĢāđŒ

āđāļ™āļ§āļ•āđ‰āļēāļ™ & āđāļ™āļ§āļĢāļąāļš

āđ„āļĄāđˆāļĄāļĩāļ‚āđ‰āļ­āļĄāļđāļĨ

āđāļœāļ™āļ āļđāļĄāļīāđ€āļĢāļ”āļēāļĢāđŒ

āļĢāļēāļ„āļēāļ›āļąāļˆāļˆāļļāļšāļąāļ™
āļ„āļĢāļąāđ‰āļ‡āļāđˆāļ­āļ™

āļĢāļēāļ„āļēāđ€āļ›āđ‰āļēāļŦāļĄāļēāļĒāļ™āļąāļāļ§āļīāđ€āļ„āļĢāļēāļ°āļŦāđŒ

āļ­āđ‰āļēāļ‡āļ­āļīāļ‡āļˆāļēāļāļ™āļąāļāļ§āļīāđ€āļ„āļĢāļēāļ°āļŦāđŒāļ—āļąāđ‰āļ‡āļŦāļĄāļ” 15 āļ„āļ™
āļ‹āļ·āđ‰āļ­
āļ„āļ°āđāļ™āļ™āļ›āļąāļˆāļˆāļļāļšāļąāļ™
868.156
āļĢāļēāļ„āļēāđ€āļ›āđ‰āļēāļŦāļĄāļēāļĒ
+6.67%
āđ‚āļ­āļāļēāļŠāđƒāļ™āļāļēāļĢāđ€āļ•āļīāļšāđ‚āļ•āļ‚āļ­āļ‡āļĢāļēāļ„āļē
āļ„āļģāļŠāļĩāđ‰āđāļˆāļ‡: āļāļēāļĢāļˆāļąāļ”āļ­āļąāļ™āļ”āļąāļšāđāļĨāļ°āļĢāļēāļ„āļēāđ€āļ›āđ‰āļēāļŦāļĄāļēāļĒāđ‚āļ”āļĒāļ™āļąāļāļ§āļīāđ€āļ„āļĢāļēāļ°āļŦāđŒāļˆāļąāļ”āļ—āļģāđ‚āļ”āļĒ LSEG āđ€āļžāļ·āđˆāļ­āļ§āļąāļ•āļ–āļļāļ›āļĢāļ°āļŠāļ‡āļ„āđŒāđƒāļ™āļāļēāļĢāđƒāļŦāđ‰āļ‚āđ‰āļ­āļĄāļđāļĨāđ€āļ—āđˆāļēāļ™āļąāđ‰āļ™ āđāļĨāļ°āđ„āļĄāđˆāļ–āļ·āļ­āđ€āļ›āđ‡āļ™āļ„āļģāđāļ™āļ°āļ™āļģāđƒāļ™āļāļēāļĢāļĨāļ‡āļ—āļļāļ™

āļˆāļļāļ”āđ€āļ”āđˆāļ™āļ‚āļ­āļ‡āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—

āļˆāļļāļ”āđāļ‚āđ‡āļ‡āļ„āļ§āļēāļĄāđ€āļŠāļĩāđˆāļĒāļ‡
ASML Holding N.V. is a holding company based in the Netherlands. The Company operates through its subsidiaries in the Netherlands, the United States, Italy, France, Germany, the United Kingdom, Ireland, Belgium, South Korea, Taiwan, Singapore, China, Hong Kong, Japan, Malaysia and Israel. The Company operates through one business segment which is engage in development, production, marketing, sales, upgrading and servicing of advanced semiconductor equipment systems, consisting of lithography, metrology and inspection systems. The Company offers TWINSCAN systems, equipped with lithography system with a mercury lamp as light source (i-line), Krypton Fluoride (KrF) and Argon Fluoride (ArF) light sources for processing wafers for manufacturing environments for which imaging at a small resolution is required. TWINSCAN systems also include immersion lithography systems (TWINSCAN immersion systems).
āļāļēāļĢāđ€āļ•āļīāļšāđ‚āļ•āļŠāļđāļ‡
āļĢāļēāļĒāđ„āļ”āđ‰āļ‚āļ­āļ‡āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—āđ€āļ•āļīāļšāđ‚āļ•āļ­āļĒāđˆāļēāļ‡āļ•āđˆāļ­āđ€āļ™āļ·āđˆāļ­āļ‡āļ•āļĨāļ­āļ” 3 āļ›āļĩāļ—āļĩāđˆāļœāđˆāļēāļ™āļĄāļē āđ‚āļ”āļĒāļĄāļĩāļ­āļąāļ•āļĢāļēāļāļēāļĢāđ€āļ•āļīāļšāđ‚āļ•āđ€āļ‰āļĨāļĩāđˆāļĒāļ›āļĩāļ•āđˆāļ­āļ›āļĩāļ­āļĒāļđāđˆāļ—āļĩāđˆ 37.29%
āļāļēāļĢāđ€āļ•āļīāļšāđ‚āļ•āļ‚āļ­āļ‡āļāļģāđ„āļĢāļŠāļđāļ‡
āļāļģāđ„āļĢāļŠāļļāļ—āļ˜āļīāļ‚āļ­āļ‡āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—āļ­āļĒāļđāđˆāđƒāļ™āļĢāļ°āļ”āļąāļšāļœāļđāđ‰āļ™āļģāļ­āļļāļ•āļŠāļēāļŦāļāļĢāļĢāļĄ āđ‚āļ”āļĒāļĄāļĩāļāļģāđ„āļĢāļŠāļļāļ—āļ˜āļīāļ›āļĢāļ°āļˆāļģāļ›āļĩāļĨāđˆāļēāļŠāļļāļ”āļĢāļ§āļĄ USD 38.47
āđ€āļ‡āļīāļ™āļ›āļąāļ™āļœāļĨāļŠāļđāļ‡
āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—āđ€āļ›āđ‡āļ™āļœāļđāđ‰āļˆāđˆāļēāļĒāđ€āļ‡āļīāļ™āļ›āļąāļ™āļœāļĨāļŠāļđāļ‡ āđ‚āļ”āļĒāļĄāļĩāļ­āļąāļ•āļĢāļēāļāļēāļĢāļˆāđˆāļēāļĒāđ€āļ‡āļīāļ™āļ›āļąāļ™āļœāļĨāļĨāđˆāļēāļŠāļļāļ”āļ­āļĒāļđāđˆāļ—āļĩāđˆ 32.40%
āđ€āļ‡āļīāļ™āļ›āļąāļ™āļœāļĨāļŠāļĄāđˆāļģāđ€āļŠāļĄāļ­
āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—āļĒāļąāļ‡āļ„āļ‡āļˆāđˆāļēāļĒāđ€āļ‡āļīāļ™āļ›āļąāļ™āļœāļĨāļ­āļĒāđˆāļēāļ‡āļŠāļĄāđˆāļģāđ€āļŠāļĄāļ­āļ•āļĨāļ­āļ” 5 āļ›āļĩāļ—āļĩāđˆāļœāđˆāļēāļ™āļĄāļē āđ‚āļ”āļĒāļĄāļĩāļ­āļąāļ•āļĢāļēāļāļēāļĢāļˆāđˆāļēāļĒāđ€āļ‡āļīāļ™āļ›āļąāļ™āļœāļĨāļĨāđˆāļēāļŠāļļāļ”āļ­āļĒāļđāđˆāļ—āļĩāđˆ 32.40%
āļĄāļđāļĨāļ„āđˆāļēāļ•āđˆāļģāđ€āļāļīāļ™āļˆāļĢāļīāļ‡
PB āļĨāđˆāļēāļŠāļļāļ”āļ‚āļ­āļ‡āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—āļ­āļĒāļđāđˆāļ—āļĩāđˆ 12.69 āļ‹āļķāđˆāļ‡āļ­āļĒāļđāđˆāđƒāļ™āļŠāđˆāļ§āļ‡āđ€āļ›āļ­āļĢāđŒāđ€āļ‹āđ‡āļ™āđ„āļ—āļĨāđŒāļ•āđˆāļģāļŠāļļāļ”āļ‚āļ­āļ‡āļĢāļ­āļš 3 āļ›āļĩ
āļāļēāļĢāļ‚āļēāļĒāđ‚āļ”āļĒāļŠāļ–āļēāļšāļąāļ™
āļāļēāļĢāļ–āļ·āļ­āļ„āļĢāļ­āļ‡āļĨāđˆāļēāļŠāļļāļ”āđ‚āļ”āļĒāļŠāļ–āļēāļšāļąāļ™āļ­āļĒāļđāđˆāļ—āļĩāđˆ 71.77M āļŦāļļāđ‰āļ™ āļĨāļ”āļĨāļ‡ 9.00% āđāļšāļšāđ„āļ•āļĢāļĄāļēāļŠāļ•āđˆāļ­āđ„āļ•āļĢāļĄāļēāļŠ
āļ–āļ·āļ­āļ„āļĢāļ­āļ‡āđ‚āļ”āļĒ Ken Fisher
āļ™āļąāļāļĨāļ‡āļ—āļļāļ™āļŠāļ·āđˆāļ­āļ”āļąāļ‡ Ken Fisher āļ–āļ·āļ­āļŦāļļāđ‰āļ™āļ•āļąāļ§āļ™āļĩāđ‰āļ­āļĒāļđāđˆāļˆāļģāļ™āļ§āļ™ 4.24M āļŦāļļāđ‰āļ™
āļāļīāļˆāļāļĢāļĢāļĄāļāļēāļĢāļ•āļĨāļēāļ”āļ•āđˆāļģāļĨāļ‡
āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—āđ„āļ”āđ‰āļĢāļąāļšāļ„āļ§āļēāļĄāļŠāļ™āđƒāļˆāļˆāļēāļāļ™āļąāļāļĨāļ‡āļ—āļļāļ™āļ™āđ‰āļ­āļĒāļĨāļ‡ āđ‚āļ”āļĒāļĄāļĩāļ­āļąāļ•āļĢāļēāļŦāļĄāļļāļ™āđ€āļ§āļĩāļĒāļ™āļāļēāļĢāļ‹āļ·āđ‰āļ­āļ‚āļēāļĒ 20 āļ§āļąāļ™āļ­āļĒāļđāđˆāļ—āļĩāđˆ -0.13

āļ‚āđˆāļēāļ§āļŠāļēāļĢ

āđ€āļ­āđ€āļ­āļŠāđ€āļ­āđ‡āļĄāđāļ­āļĨāđ€āļ”āļīāļ™āļŦāļ™āđ‰āļēāđ€āļ‚āđ‰āļēāļŠāļđāđˆ AI āļ”āđ‰āļ§āļĒāļāļēāļĢāļĨāļ‡āļ—āļļāļ™ â‚Ž1.3 āļžāļąāļ™āļĨāđ‰āļēāļ™āļĒāļđāđ‚āļĢāđƒāļ™āļĄāļīāļŠāļ—āļĢāļĩāļĨ āļĄāļļāđˆāļ‡āļĒāļāļĢāļ°āļ”āļąāļšāļ„āļ§āļēāļĄāđ€āļ›āđ‡āļ™āļ­āļīāļŠāļĢāļ°āļ‚āļ­āļ‡āđ‚āļĄāđ€āļ”āļĨāļˆāļēāļāļŠāļŦāļĢāļąāļāļŊ

TradingKey - āđƒāļ™āļ§āļąāļ™āļˆāļąāļ™āļ—āļĢāđŒāļ—āļĩāđˆāļœāđˆāļēāļ™āļĄāļē āļĄāļĩāļĢāļēāļĒāļ‡āļēāļ™āļ§āđˆāļēāđ€āļ­āđ€āļ­āļŠāđ€āļ­āđ‡āļĄāđāļ­āļĨ āļœāļđāđ‰āļœāļĨāļīāļ•āļ­āļļāļ›āļāļĢāļ“āđŒāļāļķāđˆāļ‡āļ•āļąāļ§āļ™āļģāđāļĨāļ°āļĒāļąāļāļĐāđŒāđƒāļŦāļāđˆāļ”āđ‰āļēāļ™āļĨāļīāđ‚āļ—āļāļĢāļēāļŸāļĩ āđ„āļ”āđ‰āļ›āļĢāļ°āļāļēāļĻāļĨāļ‡āļ—āļļāļ™āđƒāļ™āļŠāļ•āļēāļĢāđŒāļ—āļ­āļąāļž AI āļŠāļąāļāļŠāļēāļ•āļīāļāļĢāļąāđˆāļ‡āđ€āļĻāļŠ āļĄāļīāļŠāļ—āļĢāļĩāļĨ AI āđ‚āļ”āļĒāļĄāļļāđˆāļ‡āļĄāļąāđˆāļ™āļĨāļ‡āļ—āļļāļ™āļ–āļķāļ‡ â‚Ž1.3 āļžāļąāļ™āļĨāđ‰āļēāļ™āļĒāļđāđ‚āļĢ āđ€āļžāļ·āđˆāļ­āđ€āļ›āđ‡āļ™āļœāļđāđ‰āļ–āļ·āļ­āļŦāļļāđ‰āļ™āļĢāļēāļĒāđƒāļŦāļāđˆāļ—āļĩāđˆāļŠāļļāļ”āļ‚āļ­āļ‡āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ— āļ„āļ§āļēāļĄāļĢāđˆāļ§āļĄāļĄāļ·āļ­āļ™āļĩāđ‰āļĢāļ°āļŦāļ§āđˆāļēāļ‡āļŠāļ­āļ‡āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—āđ€āļ—āļ„āđ‚āļ™āđ‚āļĨāļĒāļĩāļˆāļēāļāļĒāļļāđ‚āļĢāļ›āļ–āļ·āļ­āđ€āļ›āđ‡āļ™āļāđ‰āļēāļ§

TradingKeyāļ§āļąāļ™āļ­āļąāļ‡āļ„āļēāļĢāļ—āļĩāđˆ 9 āļ.āļĒ.
TradingKey - āđƒāļ™āļ§āļąāļ™āļˆāļąāļ™āļ—āļĢāđŒāļ—āļĩāđˆāļœāđˆāļēāļ™āļĄāļē āļĄāļĩāļĢāļēāļĒāļ‡āļēāļ™āļ§āđˆāļēāđ€āļ­āđ€āļ­āļŠāđ€āļ­āđ‡āļĄāđāļ­āļĨ āļœāļđāđ‰āļœāļĨāļīāļ•āļ­āļļāļ›āļāļĢāļ“āđŒāļāļķāđˆāļ‡āļ•āļąāļ§āļ™āļģāđāļĨāļ°āļĒāļąāļāļĐāđŒāđƒāļŦāļāđˆāļ”āđ‰āļēāļ™āļĨāļīāđ‚āļ—āļāļĢāļēāļŸāļĩ āđ„āļ”āđ‰āļ›āļĢāļ°āļāļēāļĻāļĨāļ‡āļ—āļļāļ™āđƒāļ™āļŠāļ•āļēāļĢāđŒāļ—āļ­āļąāļž AI āļŠāļąāļāļŠāļēāļ•āļīāļāļĢāļąāđˆāļ‡āđ€āļĻāļŠ āļĄāļīāļŠāļ—āļĢāļĩāļĨ AI āđ‚āļ”āļĒāļĄāļļāđˆāļ‡āļĄāļąāđˆāļ™āļĨāļ‡āļ—āļļāļ™āļ–āļķāļ‡ â‚Ž1.3 āļžāļąāļ™āļĨāđ‰āļēāļ™āļĒāļđāđ‚āļĢ āđ€āļžāļ·āđˆāļ­āđ€āļ›āđ‡āļ™āļœāļđāđ‰āļ–āļ·āļ­āļŦāļļāđ‰āļ™āļĢāļēāļĒāđƒāļŦāļāđˆāļ—āļĩāđˆāļŠāļļāļ”āļ‚āļ­āļ‡āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ— āļ„āļ§āļēāļĄāļĢāđˆāļ§āļĄāļĄāļ·āļ­āļ™āļĩāđ‰āļĢāļ°āļŦāļ§āđˆāļēāļ‡āļŠāļ­āļ‡āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—āđ€āļ—āļ„āđ‚āļ™āđ‚āļĨāļĒāļĩāļˆāļēāļāļĒāļļāđ‚āļĢāļ›āļ–āļ·āļ­āđ€āļ›āđ‡āļ™āļāđ‰āļēāļ§

āļ•āļąāļ§āļŠāļĩāđ‰āļ§āļąāļ”āļ—āļēāļ‡āļāļēāļĢāđ€āļ‡āļīāļ™î˜

EPS

āđ„āļĄāđˆāļĄāļĩāļ‚āđ‰āļ­āļĄāļđāļĨ

āļĢāļēāļĒāđ„āļ”āđ‰āļĢāļ§āļĄ

āđ„āļĄāđˆāļĄāļĩāļ‚āđ‰āļ­āļĄāļđāļĨ

āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—

ASML Holding N.V. is a holding company based in the Netherlands. The Company operates through its subsidiaries in the Netherlands, the United States, Italy, France, Germany, the United Kingdom, Ireland, Belgium, South Korea, Taiwan, Singapore, China, Hong Kong, Japan, Malaysia and Israel. The Company operates through one business segment which is engage in development, production, marketing, sales, upgrading and servicing of advanced semiconductor equipment systems, consisting of lithography, metrology and inspection systems. The Company offers TWINSCAN systems, equipped with lithography system with a mercury lamp as light source (i-line), Krypton Fluoride (KrF) and Argon Fluoride (ArF) light sources for processing wafers for manufacturing environments for which imaging at a small resolution is required. TWINSCAN systems also include immersion lithography systems (TWINSCAN immersion systems).
āļŠāļąāļāļĨāļąāļāļĐāļ“āđŒāļĒāđˆāļ­āļ‚āļ­āļ‡āļŦāļļāđ‰āļ™ASML
āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—ASML Holding NV
āļ‹āļĩāļ­āļĩāđ‚āļ­Mr. Christophe D. Fouquet
āđ€āļ§āđ‡āļšāđ„āļ‹āļ•āđŒhttps://www.asml.com/en/
KeyAI
î™