金吾财讯 | 应用材料公司(AMAT)股价大涨8.43%,报384.15美元。
消息面上,公司发布两款面向新一代AI芯片的原子级精度制造设备,适配2nm及以下GAA晶体管工艺。首款Precision Selective Nitride PECVD系统可沉积氮化硅隔离层,抵御沟槽腐蚀,降低寄生电容,提升芯片能效;第二款Trillium ALD系统专为GAA结构优化,解决空间受限难题。两款设备已被头部逻辑芯片厂商采用
公司高管表示,埃级节点的性能与功耗高度依赖材料工程,新沉积系统将助力客户突破AI算力芯片关键技术瓶颈,支撑下一代AI GPU集成超3000亿晶体管的研发需求。