據報ASML揭祕EUV光源突破，2030年芯片產量有望提升50%

金吾財訊 | 據外媒報道，阿斯麥的研究人員表示，他們已找到一種方法，可以大幅提升關鍵芯片製造機器的光源功率，從而在2030年前將芯片產量提高多達50%。“這並非噱頭，也不是那種只能維持極短時間演示的把戲，”ASML的極紫外（EUV）光源首席技術官邁克爾·珀維斯（Michael Purvis）表示。“這是一個能在滿足客戶所有實際需求的情況下，穩定產生1,000瓦功率的系統，”他在公司位於加州聖迭戈附近的設施中補充道。