光刻機板塊表現活躍 八大概念股盤點（名單）

12月15日，光刻機概念集體走強，艾森股份20cm漲停，南大光電、恆坤新材、彤程新材、中潤光學等漲幅居前。

消息面上，據財聯社報道，阿斯麥(ASML)首席執行官克里斯托夫·富凱表示，公司爲High-NAEUV(高數值孔徑極紫外光刻機)所設計的光刻改進方案已得到驗證，成像效果極佳，分辨率非常出色。目前公司正與客戶合作，以全面完善該光刻系統的成熟度。報道稱，阿斯麥將與客戶密切配合，確保High-NAEUV在明年內實現停機時間降至最低的穩定運行。富凱預計，High-NAEUV將在2027至2028年間實現大規模量產。

光刻機，是整合了包括光源系統、光學系統、雙工件臺、掩模臺、自動對準、調焦調平、傳輸系統以及環境控制等十多個關鍵分系統。

從原理來看，簡單來說，光刻機使用特定波長的光束，透過一塊印有電路圖的掩模版，再經過一組極其精密的光學鏡頭將圖形精確縮小，最終將掩模版上的圖案投射到塗有光刻膠的硅片上，完成圖形轉移。其原理與照相十分類似，但精細度要求較高。

據瞭解，在芯片製造過程中，一般需要進行20-30次光刻才能完成各層圖形的傳遞，每一次都需要經過一整套複雜的工藝過程,包括沉積、塗膠、曝光、顯影、刻蝕、離子注入、光刻膠移除等重要步驟。在芯片製造過程中，光刻是最複雜、昂貴和關鍵的工藝，光刻的成本約爲整個製造工藝成本的1/3，耗費時間約佔整個製造工藝時間的40%-60%，因此，光刻也被稱爲芯片製造的“心臟”。

今年6月，世界半導體貿易統計組織(WSTS)預測，2025年全球半導體市場規模將達到7009億美元，同比增長11.2%；並預測市場到2026年將增長8.5%，達到7607億美元。

值得注意的是，12月，WSTS發佈的全球半導體市場最新預測顯示，2025年全球半導體營收有望同比增長22.5%至7720億美元，2026年將再增長26.3%，達9750億美元。

此外，美國半導體行業協會(SIA)在11月公佈的數據顯示，2025年第三季度全球半導體銷售額達2084億美元，較第二季度環比增長15.8%。

與此同時，我國光刻機領域也不斷迎來突破。國金證券表示，2016年上海微電子90nmArF光刻機SSA600系列實現出貨。2020年華卓精科生產的光刻機雙工件臺，打破了ASML公司在光刻機工件臺上的技術壟斷。2025年，哈爾濱工業大學官宣了成功研製出13.5nm波長的極紫外光刻光源，這是光源技術上備受矚目的一項突破。中科院上海光機所成功研發了全固態深紫外光源系統，使得中國芯片工藝推進至3納米理論極限。

這裏證券之星爲大家整理了部分光刻機概念股，需要注意的是，相關概念股僅供投資者參考，不構成任何投資建議。

1、張江高科：公司通過旗下全資子公司上海張江浩成創業投資有限公司間接參股上海微電子裝備(集團)股份有限公司，持股比例10.78%

2、茂萊光學：提供光學透鏡、棱鏡等精密光學元件，用於光刻機光學系統

3、波長光電：產品包括用於光刻機的反射鏡、聚焦鏡、場鏡等光學元器件

4、彤程新材：旗下北京科華是KrF光刻膠國內最大供應商，ArF光刻膠已批量供貨

5、炬光科技：提供光刻機用光學系統、激光器等核心元器件

6、富創精密：公司爲光刻機等半導體設備提供精密機械零部件、模組產品

7、新萊應材：公司的高純及超高純應用材料可以滿足潔淨氣體、特殊氣體和計量精度等特殊工藝的要求，同時也可以滿足泛半導體工藝過程中對真空度和潔淨度的要求

8、海立股份：公司與微電子裝備集團雙方領導就項目合作、產品配套等內容進行深入探討