CVD 設備公司設計、開發和製造各種設備,用於開發和製造複合半導體、半導體、航空航天、電池儲能市場以及先進工業應用和研究的材料和塗層。該公司的部門包括 CVD 設備、不鏽鋼設計概念 (SDC) 和 CVD 材料。CVD 設備部門提供化學氣相沉積、物理氣相傳輸和熱處理設備。其目標生產市場包括高功率電子設備(碳化硅和氮化鎵)、主要用於燃氣渦輪噴氣發動機的航空航天先進材料以及用於電池的納米材料。SDC 部門設計和製造超高純度氣體和化學品輸送控制系統。其 SDC 產品獨立銷售,也集成到某些 CVD 設備中。CVD 材料部門提供與先進材料和塗層相關的產品。
公司代碼CVV
公司名稱CVD Equipment Corp
上市日期Sep 05, 1985
CEOMr. Emmanuel Lakios
員工數量118
證券類型Ordinary Share
年結日Sep 05
公司地址355 S. Technology Drive
城市CENTRAL ISLIP
上市交易所NASDAQ Capital Market Consolidated
國家United States of America
郵編11722
電話16319817081
網址https://www.cvdequipment.com/
公司代碼CVV
上市日期Sep 05, 1985
CEOMr. Emmanuel Lakios