彭博新闻报道称,中国的大型芯片投资基金正计划关注中国在光刻和半导体设计软件等领域的主要短板,调整策略,以更好地克服美国阻止中国技术进步的努力。
彭博援引知情人士报道称,国家大基金三期(国家集成电路产业投资基金三期股份有限公司)将重点支持被视为技术进步瓶颈领域的本土企业和项目。其中包括光刻系统和芯片设计工具。
-- 消息来源:https://tinyurl.com/yryfjmze-- 注:路透未核实此报道,不保证其准确性
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