【熱門行業】中芯國際據報測試首款國產DUV光刻機 突破“卡脖子”再邁一步？

金吾財訊 | “半導體光刻機”被稱爲“史上最精密機器”之一，光刻機是半導體制造中最爲關鍵的設備之一，其技術水平直接決定了芯片製造的精細化程度，並直接影響芯片性能和功耗。

近日，一則市場消息令人振奮，據英國金融時報，兩位知情人士透露，中芯國際正在測試由上海初創公司宇量昇製造的深紫外光刻機。正在測試的這款機器採用的是浸沒式技術，類似於阿斯麥採用的技術。一位知情人士表示，儘管中芯國際的試驗初步結果令人鼓舞，但目前尚不清楚該機器是否以及何時能用於大規模芯片生產。

A股光刻機概念應聲走高，截至9月17日A股收盤，波長光電、蘇大維格、奧普光電、永新光學漲停，賽微電子漲超8%，中潤光學漲超7%，炬光科技、茂萊光學漲超6%%。

同時，消息亦提振港股半導體板塊，截至發稿，中芯國際(00981)漲5.93%，華虹半導體(01347)漲3.38%，美佳音控股(06939)漲2.3%，晶門半導體(02878)漲2.08%，中電華大科技(00085)漲1.27%。

當前市場上最高端的產品爲ASML研發的EUV光刻機，能支持7nm甚至更先進工藝，被視爲延續摩爾定律的核心突破。全球光刻機市場呈現出明顯的寡頭壟斷格局，ASML、Nikon和Canon三家公司長期佔據全球光刻機市場的主導地位。其中，ASML憑藉其在高端光刻機領域的技術優勢，2024年佔據了全球光刻機市場61.2%的份額，特別是在EUV光刻機領域，ASML是全球唯一的供應商。尼康和佳能則主要集中在中低端光刻機領域。

中國光刻機需求量較大，但國產化率極低。長期以來，中國在高端光刻機領域始終面臨 “卡脖子” 困境。美國早在2018年就開始施壓對華高端光刻機的出口，之後又陸續出臺“1007新規”等針對政策，限制對中國出口先進製程芯片設備，包括EUV光刻機和先進型號的DUV光刻機，同時聯合日本荷蘭制定相關出口條例共同對華進行產業封鎖。

面對外部封鎖壓力，在國家政策支持下，國內企業加速研發突破光刻機制造技術，目前國產光刻機在90nm及以下工藝節點方面取得了重要進展。例如，上海微電子自主研發的600系列光刻機已實現90nm工藝的量產，並正在進行28nm浸沒式光刻機的研發工作。

此外，工信部發布的《首臺（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024年版）》也將符合 “國內技術突破、擁有自主知識產權、初期市場競爭力弱” 的光刻機等核心裝備納入支持範圍，爲國產設備的市場化推廣提供政策保障。

9月15日，2025年國家網絡安全宣傳週網絡安全企業家座談會在昆明滇池國際會展中心舉行，中央網信辦副主任、國家網信辦副主任楊建文指出，頭部企業需扛起“卡脖子”技術攻關責任，聚焦芯片等關鍵領域，聯合高校院所打造創新聯合體，加速研發自主可控安全芯片以突破壟斷。

而宇量昇與中芯國際的合作測試，正是國產光刻機突破的又一重要信號。據公開資料顯示，宇量昇成立於2022年7月，爲國有控股企業，同時是中國半導體設備國產化進程中的關鍵新興力量，尤其在光刻技術領域承擔突破“卡脖子”技術的戰略使命。公司定位“半導體專用設備研發與製造”，聚焦EUV光刻機國產化，目標構建獨立於美國的半導體設備生態。

從產業影響看，此次試驗的鼓舞效應已開始顯現。光刻機技術的突破將帶動上游材料、精密機械等配套產業升級，加速光刻膠、光學部件等 “卡脖子” 材料的國產化進程，形成 “龍頭帶動、多點突破” 的產業升級格局。儘管從測試到大規模量產仍需跨越多重挑戰，但這一進展無疑爲中國半導體產業突圍注入了關鍵動力。