CVD 设备公司设计、开发和制造各种设备,用于开发和制造复合半导体、半导体、航空航天、电池储能市场以及先进工业应用和研究的材料和涂层。该公司的部门包括 CVD 设备、不锈钢设计概念 (SDC) 和 CVD 材料。CVD 设备部门提供化学气相沉积、物理气相传输和热处理设备。其目标生产市场包括高功率电子设备(碳化硅和氮化镓)、主要用于燃气涡轮喷气发动机的航空航天先进材料以及用于电池的纳米材料。SDC 部门设计和制造超高纯度气体和化学品输送控制系统。其 SDC 产品独立销售,也集成到某些 CVD 设备中。CVD 材料部门提供与先进材料和涂层相关的产品。
公司代码CVV
公司名称CVD Equipment Corp
上市日期Sep 05, 1985
CEOMr. Emmanuel Lakios
员工数量118
证券类型Ordinary Share
年结日Sep 05
公司地址355 S. Technology Drive
城市CENTRAL ISLIP
上市交易所NASDAQ Capital Market Consolidated
国家United States of America
邮编11722
电话16319817081
网址https://www.cvdequipment.com/
公司代码CVV
上市日期Sep 05, 1985
CEOMr. Emmanuel Lakios