tradingkey.logo


Ultra Clean Holdings Inc

UCTT
āļ”āļđāđāļœāļ™āļ āļđāļĄāļīāđ‚āļ”āļĒāļĨāļ°āđ€āļ­āļĩāļĒāļ”

19.870USD

-1.380-6.49%
āļ›āļīāļ” 06/13, 16:00ETāļĢāļēāļ„āļēāļĨāđˆāļēāļŠāđ‰āļē 15 āļ™āļēāļ—āļĩ
896.14MāļĄāļđāļĨāļ„āđˆāļēāļ•āļĨāļēāļ”
37.81P/E TTM


Ultra Clean Holdings Inc

19.870

-1.380-6.49%
Intraday
1m
30m
1h
D
W
M
D

āļ§āļąāļ™āļ™āļĩāđ‰

-6.49%

5 āļ§āļąāļ™

-4.10%

1 āđ€āļ”āļ·āļ­āļ™

-11.77%

6 āđ€āļ”āļ·āļ­āļ™

-46.74%

āļ•āđ‰āļ™āļ›āļĩāļˆāļ™āļ–āļķāļ‡āļ›āļąāļˆāļˆāļļāļšāļąāļ™

-44.73%

1 āļ›āļĩ

-58.66%

āļ”āļđāđāļœāļ™āļ āļđāļĄāļīāđ‚āļ”āļĒāļĨāļ°āđ€āļ­āļĩāļĒāļ”

āļ„āļ°āđāļ™āļ™āđ€āļ­āđ€āļˆāļ™āļ‹āļĩāđˆî˜°î˜°

āļ„āļ°āđāļ™āļ™āļ™āļąāļāļ§āļīāđ€āļ„āļĢāļēāļ°āļŦāđŒ

āļ­āđ‰āļēāļ‡āļ­āļīāļ‡āļˆāļēāļāļ™āļąāļāļ§āļīāđ€āļ„āļĢāļēāļ°āļŦāđŒāļ—āļąāđ‰āļ‡āļŦāļĄāļ” 4 āļ„āļ™
BUY
āļ„āļ°āđāļ™āļ™āļ›āļąāļˆāļˆāļļāļšāļąāļ™
30.750
āļĢāļēāļ„āļēāđ€āļ›āđ‰āļēāļŦāļĄāļēāļĒ
54.76%
āđ‚āļ­āļāļēāļŠāđƒāļ™āļāļēāļĢāđ€āļ•āļīāļšāđ‚āļ•āļ‚āļ­āļ‡āļĢāļēāļ„āļē
āđāļ™āļ°āļ™āļģāđƒāļŦāđ‰āļ‹āļ·āđ‰āļ­āļ—āļąāļ™āļ—āļĩ
āļ‹āļ·āđ‰āļ­
āļ–āļ·āļ­āļ„āļĢāļ­āļ‡
āļ‚āļēāļĒ
āđāļ™āļ°āļ™āļģāđƒāļŦāđ‰āļ‚āļēāļĒāļ—āļąāļ™āļ—āļĩ

āļāļēāļĢāđ€āļ›āļĢāļĩāļĒāļšāđ€āļ—āļĩāļĒāļšāļāļąāļšāļāļĨāļļāđˆāļĄāđ€āļžāļ·āđˆāļ­āļ™

21
āļ—āļąāđ‰āļ‡āļŦāļĄāļ”
9
āļĄāļąāļ˜āļĒāļāļēāļ™
11
āđ€āļ‰āļĨāļĩāđˆāļĒ
āļŠāļ·āđˆāļ­āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—
āļ„āļ°āđāļ™āļ™
āļ™āļąāļāļ§āļīāđ€āļ„āļĢāļēāļ°āļŦāđŒ
Ultra Clean Holdings Inc
UCTT
4
Applied Materials Inc
AMAT
35
Lam Research Corp
LRCX
31
KLA Corp
KLAC
26
GlobalFoundries Inc
GFS
19
Teradyne Inc
TER
17
1
2
3
4

āļ•āļąāļ§āļšāđˆāļ‡āļŠāļĩāđ‰




āļ„āļļāļ“āļĨāļąāļāļĐāļ“āļ°āļ•āļąāļ§āļšāđˆāļ‡āļŠāļĩāđ‰āđƒāļŦāđ‰āļāļēāļĢāļ§āļīāđ€āļ„āļĢāļēāļ°āļŦāđŒāļĄāļđāļĨāļ„āđˆāļēāđāļĨāļ°āļ—āļīāļĻāļ—āļēāļ‡āļŠāļģāļŦāļĢāļąāļšāļ•āļĢāļēāļŠāļēāļĢāļ•āđˆāļēāļ‡ āđ† āļ āļēāļĒāđƒāļ•āđ‰āļ•āļąāļ§āļšāđˆāļ‡āļŠāļĩāđ‰āļ—āļēāļ‡āđ€āļ—āļ„āļ™āļīāļ„āļ—āļĩāđˆāđ€āļĨāļ·āļ­āļ āļžāļĢāđ‰āļ­āļĄāļāļąāļšāļšāļ—āļŠāļĢāļļāļ›āļ—āļēāļ‡āđ€āļ—āļ„āļ™āļīāļ„

āļ„āļļāļ“āļĨāļąāļāļĐāļ“āļ°āļ™āļĩāđ‰āļ›āļĢāļ°āļāļ­āļšāļ”āđ‰āļ§āļĒāļ•āļąāļ§āļšāđˆāļ‡āļŠāļĩāđ‰āļ—āļēāļ‡āđ€āļ—āļ„āļ™āļīāļ„āļ—āļĩāđˆāđƒāļŠāđ‰āļāļąāļ™āļ—āļąāđˆāļ§āđ„āļ›āđ€āļāđ‰āļēāļ•āļąāļ§ āđ„āļ”āđ‰āđāļāđˆ MACD, RSI, KDJ, StochRSI, ATR, CCI, WR, TRIX āđāļĨāļ° MA āļ„āļļāļ“āļŠāļēāļĄāļēāļĢāļ–āļ›āļĢāļąāļšāđ€āļ›āļĨāļĩāđˆāļĒāļ™āļāļĢāļ­āļšāđ€āļ§āļĨāļēāđ„āļ”āđ‰āļ•āļēāļĄāļ„āļ§āļēāļĄāļ•āđ‰āļ­āļ‡āļāļēāļĢāļ‚āļ­āļ‡āļ„āļļāļ“

āđ‚āļ›āļĢāļ”āļ—āļĢāļēāļšāļ§āđˆāļēāļāļēāļĢāļ§āļīāđ€āļ„āļĢāļēāļ°āļŦāđŒāļ—āļēāļ‡āđ€āļ—āļ„āļ™āļīāļ„āđ€āļ›āđ‡āļ™āđ€āļžāļĩāļĒāļ‡āļŠāđˆāļ§āļ™āļŦāļ™āļķāđˆāļ‡āļ‚āļ­āļ‡āļāļēāļĢāļ­āđ‰āļēāļ‡āļ­āļīāļ‡āļāļēāļĢāļĨāļ‡āļ—āļļāļ™āđ€āļ—āđˆāļēāļ™āļąāđ‰āļ™ āđāļĨāļ°āđ„āļĄāđˆāļĄāļĩāļĄāļēāļ•āļĢāļāļēāļ™āļ—āļĩāđˆāđāļ™āđˆāļ™āļ­āļ™āļŠāļģāļŦāļĢāļąāļšāļāļēāļĢāđƒāļŠāđ‰āļ„āđˆāļēāļ•āļąāļ§āđ€āļĨāļ‚āđ€āļžāļ·āđˆāļ­āļ›āļĢāļ°āđ€āļĄāļīāļ™āļ—āļīāļĻāļ—āļēāļ‡ āļœāļĨāļĨāļąāļžāļ˜āđŒāđ€āļ›āđ‡āļ™āđ€āļžāļĩāļĒāļ‡āļ‚āđ‰āļ­āļĄāļđāļĨāļ­āđ‰āļēāļ‡āļ­āļīāļ‡āđ€āļ—āđˆāļēāļ™āļąāđ‰āļ™ āđāļĨāļ°āđ€āļĢāļēāļˆāļ°āđ„āļĄāđˆāļĢāļąāļšāļœāļīāļ”āļŠāļ­āļšāļ•āđˆāļ­āļ„āļ§āļēāļĄāļ–āļđāļāļ•āđ‰āļ­āļ‡āđāļĄāđˆāļ™āļĒāļģāļ‚āļ­āļ‡āļāļēāļĢāļ„āļģāļ™āļ§āļ“āđāļĨāļ°āļŠāļĢāļļāļ›āļ‚āļ­āļ‡āļ•āļąāļ§āļšāđˆāļ‡āļŠāļĩāđ‰

1āļ™.
15m
30m
1h
āļ§.
āļŠ.
āļ”.
1āļ™.
15m
30m
āļ§.î˜Ū
āļ‚āļēāļĒ
āļ‚āļēāļĒ(10)
āđ€āļ›āđ‡āļ™āļāļĨāļēāļ‡(3)
āļ‹āļ·āđ‰āļ­(0)
āļ­āļīāļ™āļ”āļīāđ€āļ„āđ€āļ•āļ­āļĢāđŒ
āļ‚āļēāļĒ(4)
āđ€āļ›āđ‡āļ™āļāļĨāļēāļ‡(3)
āļ‹āļ·āđ‰āļ­(0)
āļ­āļīāļ™āļ”āļīāđ€āļ„āđ€āļ•āļ­āļĢāđŒ
āļĄāļđāļĨāļ„āđˆāļē
āļ—āļīāļĻāļ—āļēāļ‡
MACD(12,26,9)
0.086
āđ€āļ›āđ‡āļ™āļāļĨāļēāļ‡
RSI(14)
43.683
āđ€āļ›āđ‡āļ™āļāļĨāļēāļ‡
STOCH(KDJ)(9,3,3)
46.068
āļ‚āļēāļĒ
ATR(14)
0.923
āļ„āļ§āļēāļĄāļœāļąāļ™āļœāļ§āļ™āļ•āđˆāļģ
CCI(14)
-54.128
āđ€āļ›āđ‡āļ™āļāļĨāļēāļ‡
Williams %R
71.254
āļ‚āļēāļĒ
TRIX(12,20)
0.045
āļ‚āļēāļĒ
StochRSI(14)
0.000
āļ‚āļēāļĒ
āļ„āđˆāļēāđ€āļ‰āļĨāļĩāđˆāļĒāđ€āļ„āļĨāļ·āđˆāļ­āļ™āļ—āļĩāđˆ (MA)
āļ‚āļēāļĒ(6)
āđ€āļ›āđ‡āļ™āļāļĨāļēāļ‡(0)
āļ‹āļ·āđ‰āļ­(0)
āļ­āļīāļ™āļ”āļīāđ€āļ„āđ€āļ•āļ­āļĢāđŒ
āļĄāļđāļĨāļ„āđˆāļē
āļ—āļīāļĻāļ—āļēāļ‡
MA5
21.136
āļ‚āļēāļĒ
MA10
20.802
āļ‚āļēāļĒ
MA20
20.702
āļ‚āļēāļĒ
MA50
20.321
āļ‚āļēāļĒ
MA100
25.214
āļ‚āļēāļĒ
MA200
30.969
āļ‚āļēāļĒ

āļ‚āđˆāļēāļ§āļŠāļēāļĢ

āļˆāļ°āļĄāļĩāļ‚āđˆāļēāļ§āļŠāļēāļĢāđ€āļžāļīāđˆāļĄāđ€āļ•āļīāļĄāđ€āļĢāđ‡āļ§āđ† āļ™āļĩāđ‰ āđ‚āļ›āļĢāļ”āļ•āļīāļ”āļ•āļēāļĄ...

āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—

Ultra Clean Holdings, Inc. is a developer and supplier of critical subsystems, components, parts, and ultra-high purity cleaning and analytical services, primarily for the semiconductor industry. It offers its customers an integrated outsourced solution for major subassemblies, design-to-delivery cycle times, design for manufacturability, and prototyping. The Company’s segments are Products and Services. The Products segment primarily designs, engineers, and manufactures production tools, components, parts, and modules and subsystems. The Products segment includes chemical delivery modules, frame assemblies, gas delivery systems, fluid delivery systems, precision robotics and process modules as well as other high-level assemblies. The Services segment provides ultra-high purity parts cleaning, process tool part recoating, surface encapsulation and high sensitivity micro contamination analysis primarily for the semiconductor device makers and wafer fabrication equipment (WFE) markets.
āļŠāļąāļāļĨāļąāļāļĐāļ“āđŒāļĒāđˆāļ­āļ‚āļ­āļ‡āļŦāļļāđ‰āļ™UCTT
āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—Ultra Clean Holdings Inc
āļ‹āļĩāļ­āļĩāđ‚āļ­Mr. Clarence L. Granger
āđ€āļ§āđ‡āļšāđ„āļ‹āļ•āđŒhttps://www.uct.com/
KeyAI
î™