tradingkey.logo


Entegris Inc

ENTG
āļ”āļđāđāļœāļ™āļ āļđāļĄāļīāđ‚āļ”āļĒāļĨāļ°āđ€āļ­āļĩāļĒāļ”

75.340USD

-4.280-5.38%
āļ›āļīāļ” 06/13, 16:00ETāļĢāļēāļ„āļēāļĨāđˆāļēāļŠāđ‰āļē 15 āļ™āļēāļ—āļĩ
11.40BāļĄāļđāļĨāļ„āđˆāļēāļ•āļĨāļēāļ”
38.93P/E TTM


Entegris Inc

75.340

-4.280-5.38%
Intraday
1m
30m
1h
D
W
M
D

āļ§āļąāļ™āļ™āļĩāđ‰

-5.38%

5 āļ§āļąāļ™

+3.32%

1 āđ€āļ”āļ·āļ­āļ™

-4.06%

6 āđ€āļ”āļ·āļ­āļ™

-29.36%

āļ•āđ‰āļ™āļ›āļĩāļˆāļ™āļ–āļķāļ‡āļ›āļąāļˆāļˆāļļāļšāļąāļ™

-23.95%

1 āļ›āļĩ

-43.73%

āļ”āļđāđāļœāļ™āļ āļđāļĄāļīāđ‚āļ”āļĒāļĨāļ°āđ€āļ­āļĩāļĒāļ”

āļ„āļ°āđāļ™āļ™āđ€āļ­āđ€āļˆāļ™āļ‹āļĩāđˆî˜°î˜°

āļ„āļ°āđāļ™āļ™āļ™āļąāļāļ§āļīāđ€āļ„āļĢāļēāļ°āļŦāđŒ

āļ­āđ‰āļēāļ‡āļ­āļīāļ‡āļˆāļēāļāļ™āļąāļāļ§āļīāđ€āļ„āļĢāļēāļ°āļŦāđŒāļ—āļąāđ‰āļ‡āļŦāļĄāļ” 11 āļ„āļ™
BUY
āļ„āļ°āđāļ™āļ™āļ›āļąāļˆāļˆāļļāļšāļąāļ™
99.834
āļĢāļēāļ„āļēāđ€āļ›āđ‰āļēāļŦāļĄāļēāļĒ
32.51%
āđ‚āļ­āļāļēāļŠāđƒāļ™āļāļēāļĢāđ€āļ•āļīāļšāđ‚āļ•āļ‚āļ­āļ‡āļĢāļēāļ„āļē
āđāļ™āļ°āļ™āļģāđƒāļŦāđ‰āļ‹āļ·āđ‰āļ­āļ—āļąāļ™āļ—āļĩ
āļ‹āļ·āđ‰āļ­
āļ–āļ·āļ­āļ„āļĢāļ­āļ‡
āļ‚āļēāļĒ
āđāļ™āļ°āļ™āļģāđƒāļŦāđ‰āļ‚āļēāļĒāļ—āļąāļ™āļ—āļĩ

āļāļēāļĢāđ€āļ›āļĢāļĩāļĒāļšāđ€āļ—āļĩāļĒāļšāļāļąāļšāļāļĨāļļāđˆāļĄāđ€āļžāļ·āđˆāļ­āļ™

21
āļ—āļąāđ‰āļ‡āļŦāļĄāļ”
9
āļĄāļąāļ˜āļĒāļāļēāļ™
11
āđ€āļ‰āļĨāļĩāđˆāļĒ
āļŠāļ·āđˆāļ­āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—
āļ„āļ°āđāļ™āļ™
āļ™āļąāļāļ§āļīāđ€āļ„āļĢāļēāļ°āļŦāđŒ
Entegris Inc
ENTG
11
Applied Materials Inc
AMAT
35
Lam Research Corp
LRCX
31
KLA Corp
KLAC
26
GlobalFoundries Inc
GFS
19
Teradyne Inc
TER
17
1
2
3
4

āļ•āļąāļ§āļšāđˆāļ‡āļŠāļĩāđ‰




āļ„āļļāļ“āļĨāļąāļāļĐāļ“āļ°āļ•āļąāļ§āļšāđˆāļ‡āļŠāļĩāđ‰āđƒāļŦāđ‰āļāļēāļĢāļ§āļīāđ€āļ„āļĢāļēāļ°āļŦāđŒāļĄāļđāļĨāļ„āđˆāļēāđāļĨāļ°āļ—āļīāļĻāļ—āļēāļ‡āļŠāļģāļŦāļĢāļąāļšāļ•āļĢāļēāļŠāļēāļĢāļ•āđˆāļēāļ‡ āđ† āļ āļēāļĒāđƒāļ•āđ‰āļ•āļąāļ§āļšāđˆāļ‡āļŠāļĩāđ‰āļ—āļēāļ‡āđ€āļ—āļ„āļ™āļīāļ„āļ—āļĩāđˆāđ€āļĨāļ·āļ­āļ āļžāļĢāđ‰āļ­āļĄāļāļąāļšāļšāļ—āļŠāļĢāļļāļ›āļ—āļēāļ‡āđ€āļ—āļ„āļ™āļīāļ„

āļ„āļļāļ“āļĨāļąāļāļĐāļ“āļ°āļ™āļĩāđ‰āļ›āļĢāļ°āļāļ­āļšāļ”āđ‰āļ§āļĒāļ•āļąāļ§āļšāđˆāļ‡āļŠāļĩāđ‰āļ—āļēāļ‡āđ€āļ—āļ„āļ™āļīāļ„āļ—āļĩāđˆāđƒāļŠāđ‰āļāļąāļ™āļ—āļąāđˆāļ§āđ„āļ›āđ€āļāđ‰āļēāļ•āļąāļ§ āđ„āļ”āđ‰āđāļāđˆ MACD, RSI, KDJ, StochRSI, ATR, CCI, WR, TRIX āđāļĨāļ° MA āļ„āļļāļ“āļŠāļēāļĄāļēāļĢāļ–āļ›āļĢāļąāļšāđ€āļ›āļĨāļĩāđˆāļĒāļ™āļāļĢāļ­āļšāđ€āļ§āļĨāļēāđ„āļ”āđ‰āļ•āļēāļĄāļ„āļ§āļēāļĄāļ•āđ‰āļ­āļ‡āļāļēāļĢāļ‚āļ­āļ‡āļ„āļļāļ“

āđ‚āļ›āļĢāļ”āļ—āļĢāļēāļšāļ§āđˆāļēāļāļēāļĢāļ§āļīāđ€āļ„āļĢāļēāļ°āļŦāđŒāļ—āļēāļ‡āđ€āļ—āļ„āļ™āļīāļ„āđ€āļ›āđ‡āļ™āđ€āļžāļĩāļĒāļ‡āļŠāđˆāļ§āļ™āļŦāļ™āļķāđˆāļ‡āļ‚āļ­āļ‡āļāļēāļĢāļ­āđ‰āļēāļ‡āļ­āļīāļ‡āļāļēāļĢāļĨāļ‡āļ—āļļāļ™āđ€āļ—āđˆāļēāļ™āļąāđ‰āļ™ āđāļĨāļ°āđ„āļĄāđˆāļĄāļĩāļĄāļēāļ•āļĢāļāļēāļ™āļ—āļĩāđˆāđāļ™āđˆāļ™āļ­āļ™āļŠāļģāļŦāļĢāļąāļšāļāļēāļĢāđƒāļŠāđ‰āļ„āđˆāļēāļ•āļąāļ§āđ€āļĨāļ‚āđ€āļžāļ·āđˆāļ­āļ›āļĢāļ°āđ€āļĄāļīāļ™āļ—āļīāļĻāļ—āļēāļ‡ āļœāļĨāļĨāļąāļžāļ˜āđŒāđ€āļ›āđ‡āļ™āđ€āļžāļĩāļĒāļ‡āļ‚āđ‰āļ­āļĄāļđāļĨāļ­āđ‰āļēāļ‡āļ­āļīāļ‡āđ€āļ—āđˆāļēāļ™āļąāđ‰āļ™ āđāļĨāļ°āđ€āļĢāļēāļˆāļ°āđ„āļĄāđˆāļĢāļąāļšāļœāļīāļ”āļŠāļ­āļšāļ•āđˆāļ­āļ„āļ§āļēāļĄāļ–āļđāļāļ•āđ‰āļ­āļ‡āđāļĄāđˆāļ™āļĒāļģāļ‚āļ­āļ‡āļāļēāļĢāļ„āļģāļ™āļ§āļ“āđāļĨāļ°āļŠāļĢāļļāļ›āļ‚āļ­āļ‡āļ•āļąāļ§āļšāđˆāļ‡āļŠāļĩāđ‰

1āļ™.
15m
30m
1h
āļ§.
āļŠ.
āļ”.
1āļ™.
15m
30m
āļ§.î˜Ū
āđ€āļ›āđ‡āļ™āļāļĨāļēāļ‡
āļ‚āļēāļĒ(5)
āđ€āļ›āđ‡āļ™āļāļĨāļēāļ‡(4)
āļ‹āļ·āđ‰āļ­(4)
āļ­āļīāļ™āļ”āļīāđ€āļ„āđ€āļ•āļ­āļĢāđŒ
āļ‚āļēāļĒ(2)
āđ€āļ›āđ‡āļ™āļāļĨāļēāļ‡(4)
āļ‹āļ·āđ‰āļ­(1)
āļ­āļīāļ™āļ”āļīāđ€āļ„āđ€āļ•āļ­āļĢāđŒ
āļĄāļđāļĨāļ„āđˆāļē
āļ—āļīāļĻāļ—āļēāļ‡
MACD(12,26,9)
1.680
āđ€āļ›āđ‡āļ™āļāļĨāļēāļ‡
RSI(14)
48.859
āđ€āļ›āđ‡āļ™āļāļĨāļēāļ‡
STOCH(KDJ)(9,3,3)
72.907
āđ€āļ›āđ‡āļ™āļāļĨāļēāļ‡
ATR(14)
3.547
āļ„āļ§āļēāļĄāļœāļąāļ™āļœāļ§āļ™āļ•āđˆāļģ
CCI(14)
47.235
āđ€āļ›āđ‡āļ™āļāļĨāļēāļ‡
Williams %R
39.205
āļ‹āļ·āđ‰āļ­
TRIX(12,20)
-0.104
āļ‚āļēāļĒ
StochRSI(14)
0.000
āļ‚āļēāļĒ
āļ„āđˆāļēāđ€āļ‰āļĨāļĩāđˆāļĒāđ€āļ„āļĨāļ·āđˆāļ­āļ™āļ—āļĩāđˆ (MA)
āļ‚āļēāļĒ(3)
āđ€āļ›āđ‡āļ™āļāļĨāļēāļ‡(0)
āļ‹āļ·āđ‰āļ­(3)
āļ­āļīāļ™āļ”āļīāđ€āļ„āđ€āļ•āļ­āļĢāđŒ
āļĄāļđāļĨāļ„āđˆāļē
āļ—āļīāļĻāļ—āļēāļ‡
MA5
78.308
āļ‚āļēāļĒ
MA10
74.929
āļ‹āļ·āđ‰āļ­
MA20
74.299
āļ‹āļ·āđ‰āļ­
MA50
74.924
āļ‹āļ·āđ‰āļ­
MA100
87.526
āļ‚āļēāļĒ
MA200
96.947
āļ‚āļēāļĒ

āļ‚āđˆāļēāļ§āļŠāļēāļĢ

āļˆāļ°āļĄāļĩāļ‚āđˆāļēāļ§āļŠāļēāļĢāđ€āļžāļīāđˆāļĄāđ€āļ•āļīāļĄāđ€āļĢāđ‡āļ§āđ† āļ™āļĩāđ‰ āđ‚āļ›āļĢāļ”āļ•āļīāļ”āļ•āļēāļĄ...

āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—

Entegris, Inc. is a supplier of advanced materials and process solutions for the semiconductor and other high technology industries (high-tech). The Company's segments include Materials Solutions (MS), Microcontamination Control (MC) and Advanced Materials Handling (AMH). The MS segment provides advanced consumable materials, such as chemical mechanical planarization (CMP) slurries and pads, deposition materials, process chemistries and gases, formulated cleans, etchants and other specialty materials. The MC segment is engaged in filtering and purifying critical liquid chemistries and gases used in semiconductor manufacturing processes and other high-tech industries. The AMH segment protects critical materials during manufacturing, transportation, and storage; including products that monitor, protect, transport and deliver critical liquid chemistries, wafers, and other substrates for a broad set of applications in the semiconductor, life sciences and other high-tech industries.
āļŠāļąāļāļĨāļąāļāļĐāļ“āđŒāļĒāđˆāļ­āļ‚āļ­āļ‡āļŦāļļāđ‰āļ™ENTG
āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—Entegris Inc
āļ‹āļĩāļ­āļĩāđ‚āļ­Mr. David Reeder
āđ€āļ§āđ‡āļšāđ„āļ‹āļ•āđŒhttps://www.entegris.com/
KeyAI
î™