tradingkey.logo


Atomera Inc

ATOM
î˜đ
āļ”āļđāđāļœāļ™āļ āļđāļĄāļīāđ‚āļ”āļĒāļĨāļ°āđ€āļ­āļĩāļĒāļ”
2.320USD
-0.170-6.83%
āļ›āļīāļ” 02/05, 16:00ETāļĢāļēāļ„āļēāļĨāđˆāļēāļŠāđ‰āļē 15 āļ™āļēāļ—āļĩ
73.10MāļĄāļđāļĨāļ„āđˆāļēāļ•āļĨāļēāļ”
āļ‚āļēāļ”āļ—āļļāļ™P/E TTM

Intraday
1m
30m
1h
D
W
M
D

āļ§āļąāļ™āļ™āļĩāđ‰

-6.83%

5 āļ§āļąāļ™

-23.93%

1 āđ€āļ”āļ·āļ­āļ™

-2.93%

6 āđ€āļ”āļ·āļ­āļ™

-50.21%

āļ•āđ‰āļ™āļ›āļĩāļˆāļ™āļ–āļķāļ‡āļ›āļąāļˆāļˆāļļāļšāļąāļ™

+4.98%

1 āļ›āļĩ

-74.95%

āļ”āļđāđāļœāļ™āļ āļđāļĄāļīāđ‚āļ”āļĒāļĨāļ°āđ€āļ­āļĩāļĒāļ”

āļ„āļ°āđāļ™āļ™āļŦāļļāđ‰āļ™ TradingKey āļ‚āļ­āļ‡ Atomera Inc

āļŠāļāļļāļĨāđ€āļ‡āļīāļ™: USD āļ­āļąāļ›āđ€āļ”āļ•āđ€āļĄāļ·āđˆāļ­: 2026-02-05

āļ‚āđ‰āļ­āļĄāļđāļĨāđ€āļŠāļīāļ‡āļĨāļķāļ

āļ›āļąāļˆāļˆāļąāļĒāļžāļ·āđ‰āļ™āļāļēāļ™āļ‚āļ­āļ‡ Atomera Inc āļ„āđˆāļ­āļ™āļ‚āđ‰āļēāļ‡ āđāļ‚āđ‡āļ‡āđāļāļĢāđˆāļ‡āļĄāļēāļāđ‚āļ”āļĒāļĄāļĩāļāļēāļĢāđ€āļ›āļīāļ”āđ€āļœāļĒāļ‚āđ‰āļ­āļĄāļđāļĨ ESG āļ­āļĒāļđāđˆāđƒāļ™āļĢāļ°āļ”āļąāļšāđāļ™āļ§āļŦāļ™āđ‰āļēāļ‚āļ­āļ‡āļ­āļļāļ•āļŠāļēāļŦāļāļĢāļĢāļĄāđāļĨāļ°āļĻāļąāļāļĒāļ āļēāļžāđƒāļ™āļāļēāļĢāđ€āļ•āļīāļšāđ‚āļ•āļ™āļąāđ‰āļ™ āļ”āļĩāļĄāļđāļĨāļ„āđˆāļēāļ›āļĢāļ°āđ€āļĄāļīāļ™āļ‚āļ­āļ‡āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—āļ™āļĩāđ‰āļ–āļ·āļ­āļ§āđˆāļē āļĄāļđāļĨāļ„āđˆāļēāļĒāļļāļ•āļīāļ˜āļĢāļĢāļĄāļ­āļąāļ™āļ”āļąāļš 70 āļˆāļēāļāļ—āļąāđ‰āļ‡āļŦāļĄāļ” 104 āđƒāļ™āļ­āļļāļ•āļŠāļēāļŦāļāļĢāļĢāļĄ āđ€āļ‹āļĄāļīāļ„āļ­āļ™āļ”āļąāļāđ€āļ•āļ­āļĢāđŒāđāļĨāļ°āļ­āļļāļ›āļāļĢāļ“āđŒāđ€āļ‹āļĄāļīāļ„āļ­āļ™āļ”āļąāļāđ€āļ•āļ­āļĢāđŒāđāļĨāļ°āļāļēāļĢāļ–āļ·āļ­āļ„āļĢāļ­āļ‡āđ‚āļ”āļĒāļŠāļ–āļēāļšāļąāļ™āļ–āļ·āļ­āļ§āđˆāļē āļŠāļđāļ‡āļĄāļēāļāļ•āļĨāļ­āļ”āļŠāđˆāļ§āļ‡āđ€āļ”āļ·āļ­āļ™āļ—āļĩāđˆāļœāđˆāļēāļ™āļĄāļē āļ™āļąāļāļ§āļīāđ€āļ„āļĢāļēāļ°āļŦāđŒāļŦāļĨāļēāļĒāļĢāļēāļĒāđ„āļ”āđ‰āļˆāļąāļ”āļ­āļąāļ™āļ”āļąāļšāđ€āļ›āđ‡āļ™ āļ‹āļ·āđ‰āļ­ āđ‚āļ”āļĒāļĄāļĩāļĢāļēāļ„āļēāđ€āļ›āđ‰āļēāļŦāļĄāļēāļĒāļŠāļđāļ‡āļŠāļļāļ”āļ—āļĩāđˆ 5.00āđƒāļ™āļĢāļ°āļĒāļ°āļāļĨāļēāļ‡ āļ„āļēāļ”āļ§āđˆāļēāļĢāļēāļ„āļēāļŦāļļāđ‰āļ™āļˆāļ° āļĄāļĩāđāļ™āļ§āđ‚āļ™āđ‰āļĄāļ‚āļēāļĨāļ‡āđāļĄāđ‰āļ§āđˆāļēāļœāļĨāļāļēāļĢāļ”āļģāđ€āļ™āļīāļ™āļ‡āļēāļ™āđƒāļ™āļ•āļĨāļēāļ”āļŦāļļāđ‰āļ™āļˆāļ°āļ­āļĒāļđāđˆāđƒāļ™āļĢāļ°āļ”āļąāļšāļ›āļēāļ™āļāļĨāļēāļ‡āđƒāļ™āļŠāđˆāļ§āļ‡āđ€āļ”āļ·āļ­āļ™āļ—āļĩāđˆāļœāđˆāļēāļ™āļĄāļē āđāļ•āđˆāļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—āļĄāļĩāļŠāļąāļāļāļēāļ“āļ—āļēāļ‡āđ€āļ—āļ„āļ™āļīāļ„āļ—āļĩāđˆāđāļ‚āđ‡āļ‡āđāļāļĢāđˆāļ‡āļĢāļēāļ„āļēāļŦāļļāđ‰āļ™āļāļģāļĨāļąāļ‡āđ€āļ„āļĨāļ·āđˆāļ­āļ™āđ„āļŦāļ§āđƒāļ™āļāļĢāļ­āļšāđāļ„āļšāļĢāļ°āļŦāļ§āđˆāļēāļ‡āđāļ™āļ§āļĢāļąāļšāđāļĨāļ°āđāļ™āļ§āļ•āđ‰āļēāļ™ āļ—āļģāđƒāļŦāđ‰āđ€āļŦāļĄāļēāļ°āļŠāļģāļŦāļĢāļąāļšāļāļēāļĢāđ€āļ—āļĢāļ”āđāļšāļšāļŠāļ§āļīāļ‡āđƒāļ™āļāļĢāļ­āļšāļĢāļēāļ„āļē

āļ„āļ°āđāļ™āļ™āļ‚āļ­āļ‡ Atomera Inc

āļ‚āđ‰āļ­āļĄāļđāļĨāļ—āļĩāđˆāđ€āļāļĩāđˆāļĒāļ§āļ‚āđ‰āļ­āļ‡

āļ­āļąāļ™āļ”āļąāļšāđƒāļ™āļ­āļļāļ•āļŠāļēāļŦāļāļĢāļĢāļĄ
70 / 104
āļ­āļąāļ™āļ”āļąāļšāļĢāļ§āļĄ
284 / 4521
āļ­āļļāļ•āļŠāļēāļŦāļāļĢāļĢāļĄ
āđ€āļ‹āļĄāļīāļ„āļ­āļ™āļ”āļąāļāđ€āļ•āļ­āļĢāđŒāđāļĨāļ°āļ­āļļāļ›āļāļĢāļ“āđŒāđ€āļ‹āļĄāļīāļ„āļ­āļ™āļ”āļąāļāđ€āļ•āļ­āļĢāđŒ

āđāļ™āļ§āļ•āđ‰āļēāļ™ & āđāļ™āļ§āļĢāļąāļš

āļ‚āđ‰āļ­āļĄāļđāļĨāļ—āļĩāđˆāđ€āļāļĩāđˆāļĒāļ§āļ‚āđ‰āļ­āļ‡āļĒāļąāļ‡āđ„āļĄāđˆāđ„āļ”āđ‰āļĢāļąāļšāļāļēāļĢāđ€āļ›āļīāļ”āđ€āļœāļĒāļˆāļēāļāļ—āļēāļ‡āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—

āđāļœāļ™āļ āļđāļĄāļīāđ€āļĢāļ”āļēāļĢāđŒ

āļĢāļēāļ„āļēāļ›āļąāļˆāļˆāļļāļšāļąāļ™
āļ„āļĢāļąāđ‰āļ‡āļāđˆāļ­āļ™

āļāļēāļĢāļ™āļģāđ€āļŠāļ™āļ­āļ‚āđˆāļēāļ§āļ‚āļ­āļ‡āļŠāļ·āđˆāļ­

24 āļŠāļąāđˆāļ§āđ‚āļĄāļ‡āļ—āļĩāđˆāļœāđˆāļēāļ™āļĄāļē
āļĢāļ°āļ”āļąāļšāļāļēāļĢāļ™āļģāđ€āļŠāļ™āļ­āļ‚āđˆāļēāļ§

āļ•āđˆāļģāļĄāļēāļ
āļŠāļđāļ‡āļĄāļēāļ
āđ€āļŠāļīāļ‡āļšāļ§āļ

āļˆāļļāļ”āđ€āļ”āđˆāļ™āļ‚āļ­āļ‡ Atomera Inc

āļˆāļļāļ”āđāļ‚āđ‡āļ‡āļ„āļ§āļēāļĄāđ€āļŠāļĩāđˆāļĒāļ‡
Atomera Incorporated is engaged in the business of developing, commercializing and licensing processes and technologies for the semiconductor industry. The Company’s lead technology, named Mears Silicon Technology (MST) is a thin film of reengineered silicon, typically 100 to 300 angstroms (approximately 20 to 60 silicon atomic unit cells) thick. MST consists of layers of a non-semiconductor, such as oxygen, inserted into a semiconductor material, such as silicon, so that epitaxial growth is preserved. These layers can be used to modify or enhance the basic semiconductor properties and device attributes in a number of ways, including diffusion blocking, variability, mobility, gate leakage, and reliability, among others. MST can be used to create doping profiles. Its MSTcad is a Mathematical Model for the Synopsys Sentaurus Device Platform. MSTcad is available for Sentaurus Process and Device simulation packages, for physical and electrical characterization.
āļāļģāļĨāļąāļ‡āđ€āļ•āļīāļšāđ‚āļ•
āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—āļ­āļĒāļđāđˆāđƒāļ™āļŠāđˆāļ§āļ‡āļāļēāļĢāđ€āļ•āļīāļšāđ‚āļ• āđ‚āļ”āļĒāļĄāļĩāļĢāļēāļĒāđ„āļ”āđ‰āļĢāļ§āļĄāļ›āļĢāļ°āļˆāļģāļ›āļĩāļĨāđˆāļēāļŠāļļāļ”āļ­āļĒāļđāđˆāļ—āļĩāđˆ USD 135.00K
āļĄāļđāļĨāļ„āđˆāļēāļ•āđˆāļģāđ€āļāļīāļ™āļˆāļĢāļīāļ‡
PB āļĨāđˆāļēāļŠāļļāļ”āļ‚āļ­āļ‡āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—āļ­āļĒāļđāđˆāļ—āļĩāđˆ 3.84 āļ‹āļķāđˆāļ‡āļ­āļĒāļđāđˆāđƒāļ™āļŠāđˆāļ§āļ‡āđ€āļ›āļ­āļĢāđŒāđ€āļ‹āđ‡āļ™āđ„āļ—āļĨāđŒāļ•āđˆāļģāļŠāļļāļ”āļ‚āļ­āļ‡āļĢāļ­āļš 3 āļ›āļĩ
āļāļēāļĢāđ€āļ‚āđ‰āļēāļ‹āļ·āđ‰āļ­āđ‚āļ”āļĒāļŠāļ–āļēāļšāļąāļ™
āļāļēāļĢāļ–āļ·āļ­āļ„āļĢāļ­āļ‡āļĨāđˆāļēāļŠāļļāļ”āđ‚āļ”āļĒāļŠāļ–āļēāļšāļąāļ™āļ­āļĒāļđāđˆāļ—āļĩāđˆ 10.75M āļŦāļļāđ‰āļ™ āđ€āļžāļīāđˆāļĄāļ‚āļķāđ‰āļ™ 0.25% āđāļšāļšāđ„āļ•āļĢāļĄāļēāļŠāļ•āđˆāļ­āđ„āļ•āļĢāļĄāļēāļŠ
āļ–āļ·āļ­āļ„āļĢāļ­āļ‡āđ‚āļ”āļĒ Invesco
āļ™āļąāļāļĨāļ‡āļ—āļļāļ™āļŠāļ·āđˆāļ­āļ”āļąāļ‡ Invesco āļ–āļ·āļ­āļŦāļļāđ‰āļ™āļ•āļąāļ§āļ™āļĩāđ‰āļ­āļĒāļđāđˆāļˆāļģāļ™āļ§āļ™ 14.01K āļŦāļļāđ‰āļ™

āļĢāļēāļ„āļēāđ€āļ›āđ‰āļēāļŦāļĄāļēāļĒāļ™āļąāļāļ§āļīāđ€āļ„āļĢāļēāļ°āļŦāđŒ

āļ­āđ‰āļēāļ‡āļ­āļīāļ‡āļˆāļēāļāļ™āļąāļāļ§āļīāđ€āļ„āļĢāļēāļ°āļŦāđŒāļ—āļąāđ‰āļ‡āļŦāļĄāļ” 1 āļ„āļ™
āļ‹āļ·āđ‰āļ­
āļ„āļ°āđāļ™āļ™āļ›āļąāļˆāļˆāļļāļšāļąāļ™
5.000
āļĢāļēāļ„āļēāđ€āļ›āđ‰āļēāļŦāļĄāļēāļĒ
+80.51%
āđ‚āļ­āļāļēāļŠāđƒāļ™āļāļēāļĢāđ€āļ•āļīāļšāđ‚āļ•āļ‚āļ­āļ‡āļĢāļēāļ„āļē
āļ„āļģāļŠāļĩāđ‰āđāļˆāļ‡: āļāļēāļĢāļˆāļąāļ”āļ­āļąāļ™āļ”āļąāļšāđāļĨāļ°āļĢāļēāļ„āļēāđ€āļ›āđ‰āļēāļŦāļĄāļēāļĒāđ‚āļ”āļĒāļ™āļąāļāļ§āļīāđ€āļ„āļĢāļēāļ°āļŦāđŒāļˆāļąāļ”āļ—āļģāđ‚āļ”āļĒ LSEG āđ€āļžāļ·āđˆāļ­āļ§āļąāļ•āļ–āļļāļ›āļĢāļ°āļŠāļ‡āļ„āđŒāđƒāļ™āļāļēāļĢāđƒāļŦāđ‰āļ‚āđ‰āļ­āļĄāļđāļĨāđ€āļ—āđˆāļēāļ™āļąāđ‰āļ™ āđāļĨāļ°āđ„āļĄāđˆāļ–āļ·āļ­āđ€āļ›āđ‡āļ™āļ„āļģāđāļ™āļ°āļ™āļģāđƒāļ™āļāļēāļĢāļĨāļ‡āļ—āļļāļ™

Atomera Inc āļ‚āđˆāļēāļ§āļŠāļēāļĢ

āļˆāļ°āļĄāļĩāļ‚āđˆāļēāļ§āļŠāļēāļĢāđ€āļžāļīāđˆāļĄāđ€āļ•āļīāļĄāđ€āļĢāđ‡āļ§āđ† āļ™āļĩāđ‰ āđ‚āļ›āļĢāļ”āļ•āļīāļ”āļ•āļēāļĄ...

āļ•āļąāļ§āļŠāļĩāđ‰āļ§āļąāļ”āļ—āļēāļ‡āļāļēāļĢāđ€āļ‡āļīāļ™î˜

EPS

āļ‚āđ‰āļ­āļĄāļđāļĨāļ—āļĩāđˆāđ€āļāļĩāđˆāļĒāļ§āļ‚āđ‰āļ­āļ‡āļĒāļąāļ‡āđ„āļĄāđˆāđ„āļ”āđ‰āļĢāļąāļšāļāļēāļĢāđ€āļ›āļīāļ”āđ€āļœāļĒāļˆāļēāļāļ—āļēāļ‡āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—

āļĢāļēāļĒāđ„āļ”āđ‰āļĢāļ§āļĄ

āļ‚āđ‰āļ­āļĄāļđāļĨāļ—āļĩāđˆāđ€āļāļĩāđˆāļĒāļ§āļ‚āđ‰āļ­āļ‡āļĒāļąāļ‡āđ„āļĄāđˆāđ„āļ”āđ‰āļĢāļąāļšāļāļēāļĢāđ€āļ›āļīāļ”āđ€āļœāļĒāļˆāļēāļāļ—āļēāļ‡āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—

āļ‚āđ‰āļ­āļĄāļđāļĨ Atomera Inc

Atomera Incorporated is engaged in the business of developing, commercializing and licensing processes and technologies for the semiconductor industry. The Company’s lead technology, named Mears Silicon Technology (MST) is a thin film of reengineered silicon, typically 100 to 300 angstroms (approximately 20 to 60 silicon atomic unit cells) thick. MST consists of layers of a non-semiconductor, such as oxygen, inserted into a semiconductor material, such as silicon, so that epitaxial growth is preserved. These layers can be used to modify or enhance the basic semiconductor properties and device attributes in a number of ways, including diffusion blocking, variability, mobility, gate leakage, and reliability, among others. MST can be used to create doping profiles. Its MSTcad is a Mathematical Model for the Synopsys Sentaurus Device Platform. MSTcad is available for Sentaurus Process and Device simulation packages, for physical and electrical characterization.
āļŠāļąāļāļĨāļąāļāļĐāļ“āđŒāļĒāđˆāļ­āļ‚āļ­āļ‡āļŦāļļāđ‰āļ™ATOM
āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—Atomera Inc
āļ‹āļĩāļ­āļĩāđ‚āļ­Bibaud (Scott A)
āđ€āļ§āđ‡āļšāđ„āļ‹āļ•āđŒhttps://atomera.com/
KeyAI
î™