艾司摩爾重挫超8%!中國啟動浸潤式DUV曝光機量產,艾司摩爾護城河或面臨挑戰?
受中國本土企業成功啟動浸潤式DUV曝光機量產消息影響,ASML股價單日重挫逾8%,觸及6月初以來新低。儘管目前中國產能有限且技術迭代仍有落差,但該突破標誌著中國自主供應鏈核心壁壘已跨越關鍵門檻。作為ASML營收重要組成部分,DUV市場面臨長期份額流失壓力。美國出口管制未能有效阻斷技術追趕,反而加速中國產業自主化進程,未來產能擴張與技術迭代節奏,將成為重塑全球曝光設備產業競爭格局的核心不確定性因素。

Tradingkey - 艾司摩爾(ASML)股價下跌超 8%,一度跌至 6 月初以來的歷史低點。截至發稿,仍跌 5.56%,報 1659.32 美元。

艾司摩爾股價圖,來源:TradingView
據 The Information 報導,中國上海國資背景企業已啟動浸潤式 DUV 曝光機量產,規劃今年產出 5 台、明年擴產至 20 台,儘管量產仍處早期階段,但仍然引發市場對艾司摩爾 (ASML) 壟斷地位的擔憂。
據悉,DUV 是成熟製程晶片生產的核心主力設備,也是 ASML 的基本盤業務。
在美國主導的出口管制體系下,ASML 已被禁止向中國出口其最尖端的 EUV 曝光機,其最先進的 DUV 機型對華銷售也受到限制。今年第二季,中國市場仍是 ASML 的第三大營收來源,但該公司向中國交付的設備,技術世代差距落後於最頂尖機型達八代之多。
若中國成功量產 DUV 曝光機,意味著這部分既有市場的長期需求面臨分流,ASML 的護城河正在邊際收窄。
更重要的是,美國的出口管制並未阻斷中國半導體產業的技術追趕,反而加速了自主供應鏈的成型。從跨企業整合研發團隊的模式來看,中國曝光機產業正集中資源攻堅核心設備,當前產能有限、技術世代差距尚存是客觀事實,但量產突破意味著自主化已經跨過最關鍵的門檻,後續產能爬坡與迭代的節奏,將成為影響全球曝光設備產業格局的核心變數。
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