ASMLがフォトニックチップ量産の推進に向けオランダTNOと提携、露光装置大手は次世代コンピューティングへの進出を加速

TradingKey - 東部時間6月24日、ASML（ ASML）とオランダ応用科学研究機構（TNO）は、光集積回路の産業化を共同で推進するための提携を発表した。両者は、TNOがハイテク・キャンパス・アイントホーフェンに建設した光チップのパイロットラインを中心に技術提携を行う。

この光チップのパイロットラインは、EUの「PIXEurope」プロジェクトの枠組みにおける中核施設である。2026年初頭に建設が開始され、6インチウェーハレベルのインジウムリン（InP）光チップの量産体制を確立する計画である。合意に基づき、ASMLはDUVおよびI線露光装置とプロセスサポートを段階的に提供する。ASMLは露光技術における世界的なリーダーであり、同社が提供する装置とプロセスサポートは、光チップの安定した量産を実現するための極めて重要な要素の一つである。

光チップは電気信号を光信号に置き換えてデータを伝送するため、高速、低消費電力、耐電磁干渉性、広帯域幅という特徴を持つ。AIの演算能力に対する需要の高まりに伴い、従来の電気チップにおける放熱や帯域幅のボトルネックがますます顕著になっている。市場調査会社Yoleの予測によると、世界のシリコンフォトニクス市場規模は2024年の2億7800万ドルから2030年には27億ドルに成長し、年平均成長率（CAGR）は46%に達する見通しである。1枚の6インチインジウムリンウェーハからより多くのチップを生産できるため、ユニットあたりのコスト削減につながる。

プロジェクトの背景にある戦略的な狙いに目を向けると、今回の提携の意義は単なる特定の施設にとどまらない。パイロット生産ラインの役割は、研究所での研究と産業的な製造の間の架け橋を築くことである。TNOが5年間にわたり同施設の運営を担当し、その後は状況に応じて量産拠点として産業界に移管される予定である。

欧州の視点から見ると、このプロジェクトは「欧州半導体法（EU Chips Act）」の枠組みに属している。欧州は、様々な企業や研究機関が利用できる光チップ分野のオープンで共有された製造プラットフォームの確立を目指している。世界的な半導体サプライチェーンの変動が激しい中、欧州は光チップという新たなアプローチを通じて、将来の先端製造分野においてより主導的な地位を確保しようとしている。

ASMLにとって、その中核的な強みは露光装置にあるが、半導体業界はポスト・ムーア時代に入りつつあり、従来の技術的ルートは徐々に物理的限界に近づき、新しい方向性が切り拓かれている。光チップの量産に関与することで、ASMLは既存事業の応用シナリオを拡大するだけでなく、より長期的な産業構造において早期に地歩を固めることができる。

光チップの大規模な産業化には、依然としてテスト効率の低さ、複雑なパッケージングと集積化、そして高い初期コストといった課題が残されている。ハイテク・キャンパス・アイントホーフェンには、すでに「PhotonDelta」エコシステムから新興企業、研究機関、高等教育機関が集まっている。