회사의 펀더멘털은 비교적 아주 건전한한 편입니다. 회사의 밸류에이션은 적정하게 평가된으로 간주됩니다. 기관의 인지도는 매우 높은입니다. 지난 30일 동안 여러 애널리스트들이 이 회사를 매수로 평가했습니다. 주식시장에서 부진한 성과에도 불구하고, 회사는 강한 펀더멘털과 기술적 지표를 보이고 있습니다. 주가는 지지선과 저항선 사이에서 횡보하고 있으며, 범위 매매 기반의 스윙 트레이딩에 적합한 상황입니다.
주식 점수
관련 정보
산업 순위
16 / 98
전체 순위
88 / 4723
산업
반도체 및 반도체 장비
저항선 & 지지선
데이터 없음
레이더 차트
현재 가격
과거
분석가 목표가
7
명의 분석가를 기준으로
매수
현재 등급
27.000
목표 가격
+0.82%
상승 여력
면책 조항: 애널리스트 평가 및 목표 주가는 정보 제공을 위한 목적으로 LSEG에서 제공되며, 투자 조언으로 간주되지 않습니다.
기업 하이라이트
강점위험 요소
Veeco Instruments Inc. is a manufacturer of semiconductor process equipment. The Company's laser annealing, ion beam, chemical vapor deposition (CVD), metal organic chemical vapor deposition (MOCVD), single wafer etch and clean and lithography technologies play an integral role in the fabrication and packaging of advanced semiconductor devices. The Company's system products include Laser Annealing Systems, Ion Beam Systems and Etch Systems, Advanced Packaging Lithography, Single Wafer Wet Processing, Metal Organic Chemical Vapor Deposition Systems, Molecular Beam Epitaxy Systems, Atomic Layer Deposition Systems, and Other Systems. Its other deposition systems include Physical Vapor Deposition, Diamond-Like Carbon Deposition, and Chemical Vapor Deposition Systems. Its process equipment systems are used in the production of a range of microelectronic components, including logic, dynamic random-access memory (DRAM), photonics devices, power electronics, and other semiconductor devices.
이익 전환
회사의 실적이 흑자로 전환되어, 최근 연간 순이익은 미화 73.71M달러에 달합니다.%!(EXTRA int=2)
Veeco Instruments Inc. is a manufacturer of semiconductor process equipment. The Company's laser annealing, ion beam, chemical vapor deposition (CVD), metal organic chemical vapor deposition (MOCVD), single wafer etch and clean and lithography technologies play an integral role in the fabrication and packaging of advanced semiconductor devices. The Company's system products include Laser Annealing Systems, Ion Beam Systems and Etch Systems, Advanced Packaging Lithography, Single Wafer Wet Processing, Metal Organic Chemical Vapor Deposition Systems, Molecular Beam Epitaxy Systems, Atomic Layer Deposition Systems, and Other Systems. Its other deposition systems include Physical Vapor Deposition, Diamond-Like Carbon Deposition, and Chemical Vapor Deposition Systems. Its process equipment systems are used in the production of a range of microelectronic components, including logic, dynamic random-access memory (DRAM), photonics devices, power electronics, and other semiconductor devices.