Atomera Inc의 펀더멘털은 비교적 아주 건전한 상태이며, 성장 잠재력은 높습니다.기업의 밸류에이션은 적정하게 평가된 것으로 간주되며, 반도체 및 반도체 장비 산업에서 105개 중 66위 랭킹.기관 보유 비율은 매우 높은.지난 한 달 동안 여러 애널리스트가 해당 기업을 매수(으)로 평가했으며, 최고 목표 가격은 10.00입니다.중기적으로 주가는 상승 추세일 것으로 예상됩니다.지난 한 달간 주식 시장에서 매우 부진한 성과를 거두었지만, 기업의 펀더멘털과 기술적 지표는 탄탄합니다.주가는 지지선과 저항선 사이에서 횡보하고 있으며, 범위 매매 기반의 스윙 트레이딩에 적합한 상황입니다.
Atomera Inc 점수
관련 정보
산업 순위
66 / 105
전체 순위
261 / 4567
산업
반도체 및 반도체 장비
저항선 & 지지선
기업이 아직 관련 데이터를 공개하지 않았습니다.
레이더 차트
현재 가격
과거
미디어 보도
최근 24 시간
보도 수준
매우 낮은
매우 높은
중립
Atomera Inc 주요 내용
강점위험 요소
Atomera Incorporated is engaged in the business of developing, commercializing and licensing processes and technologies for the semiconductor industry. The Company’s lead technology, named Mears Silicon Technology (MST) is a thin film of reengineered silicon, typically 100 to 300 angstroms (approximately 20 to 60 silicon atomic unit cells) thick. MST consists of layers of a non-semiconductor, such as oxygen, inserted into a semiconductor material, such as silicon, so that epitaxial growth is preserved. These layers can be used to modify or enhance the basic semiconductor properties and device attributes in a number of ways, including diffusion blocking, variability, mobility, gate leakage, and reliability, among others. MST can be used to create doping profiles. Its MSTcad is a Mathematical Model for the Synopsys Sentaurus Device Platform. MSTcad is available for Sentaurus Process and Device simulation packages, for physical and electrical characterization.
성장 중
회사는 성장 단계에 있으며, 최신 연간 수익은 미화 65.00K에 달합니다.
공정한 가치
회사의 최신 PB은 6.98로, 최근 3년 기준 중간 백분위 범위에 속합니다.
기관 매도
최신 기관 보유 주식 수는 12.28M주이며, 전 분기 대비 15.20% 감소했습니다.
시장 활동 감소
회사는 투자자들의 관심이 줄어들어, 최근 20일간 회전율이 0.41입니다.
분석가 목표가
1
명의 분석가를 기준으로
매수
현재 등급
10.000
목표 가격
+32.80%
상승 여력
면책 조항: 애널리스트 평가 및 목표 주가는 정보 제공을 위한 목적으로 LSEG에서 제공되며, 투자 조언으로 간주되지 않습니다.
Atomera Incorporated is engaged in the business of developing, commercializing and licensing processes and technologies for the semiconductor industry. The Company’s lead technology, named Mears Silicon Technology (MST) is a thin film of reengineered silicon, typically 100 to 300 angstroms (approximately 20 to 60 silicon atomic unit cells) thick. MST consists of layers of a non-semiconductor, such as oxygen, inserted into a semiconductor material, such as silicon, so that epitaxial growth is preserved. These layers can be used to modify or enhance the basic semiconductor properties and device attributes in a number of ways, including diffusion blocking, variability, mobility, gate leakage, and reliability, among others. MST can be used to create doping profiles. Its MSTcad is a Mathematical Model for the Synopsys Sentaurus Device Platform. MSTcad is available for Sentaurus Process and Device simulation packages, for physical and electrical characterization.