曝光機巨頭艾司摩爾Q2財報前瞻：AI週期下的成長考驗與地緣風險

先前，艾司摩爾已在第一季調升全年營運指引並強調客戶需求持續超越供應能力，當前市場的核心關注點已不再是單季營收是否達標，而是能否將旺盛需求轉化為實際設備交付，同時維持利潤率穩定，並因應潛在的中國業務限制。

摩根大通在最新研究報告中指出，艾司摩爾需要明確釋放 2027 年及以後產能擴張與需求強勁的訊號，股價才有望實現突破。

該行認為，2027 年艾司摩爾的成長有望明顯高於全球晶圓廠設備 (WFE) 市場整體增速，但 2026 年受限於供應鏈產能，無法充分交付訂單。

根據 Yahoo Finance 彙整的分析師預期，艾司摩爾第二季營收指引為 84 億至 90 億歐元，毛利率 51% 至 52%，市場普遍關注管理階層是否會再度調升全年業績展望。

若公司第三季營收指引達到或超越市場預期的 103.4 億歐元，同時確認下游擴產需求延續，將成為股價上漲的直接催化劑。反之，若營收達標但新增訂單疲軟，可能會削弱市場對未來營收的信心，引發投資人對 AI 需求能否支撐當前估值的重新評估。

艾司摩爾憑藉全球唯一的 EUV 微影技術壟斷地位，成為半導體產業鏈中無可替代的關鍵節點。EUV 設備採用反射鏡系統替代傳統透鏡，能夠實現奈米級精度蝕刻，是 7 奈米以下先進製程晶片量產的必備條件。

目前，全球主流晶圓代工廠、記憶體晶片廠商及整合元件製造廠 (IDM) 均依賴艾司摩爾的 EUV 設備，生產用於 AI 資料中心、智慧型手機、個人電腦等場景的高階晶片。SK 海力士、美光等記憶體廠商也透過 EUV 技術打造更高性能、更低功耗的記憶體產品。

艾司摩爾預計 2026 年交付約 60 台 Low NA EUV 系統，較去年增加約 25%。儘管需求強勁，但產量取決於供應商能否提供足夠的光學元件、光源和精密部件。投資人需密切關注供應延遲跡象——若艾司摩爾無法快速提升產能，即使客戶訂單充足，部分營收也可能延遲至後續季度認列，影響短期業績表現。

今年第一季，艾司摩爾交出穩健成績單，營收 87.6 億歐元（約合 100 億美元），年增 13%；淨利 28.4 億歐元，年增 5.4%。基於 AI 基礎建設投資帶動的產業高景氣，艾司摩爾已在第一季財報中第二次調升全年財測，將 2026 年淨銷售額預期從年初的 340 億至 390 億歐元，調升至 360 億至 400 億歐元。

中國市場預計貢獻艾司摩爾 2026 年約 20% 的營收，主要風險並非已受限的 EUV 設備，而是對先進深紫外線 (DUV) 系統、備品與服務實施更嚴格的管制。

艾司摩爾在第一季財報中已將出口管制因素納入全年財測的考量範圍，投資人需要重點關注多個方面的動向，包括中國市場營收佔比是否會繼續下滑、DUV 設備的出口許可審查是否會對新訂單產生影響，以及售後服務與現場選配銷售是否會受到波及，以及台灣、韓國、美國等其他地區的客戶是否能夠吸收潛在的需求缺口。

荷蘭貿易部長近期訪華的相關報導顯示，艾司摩爾對華銷售限制問題是中荷兩國經貿對話中的重要議題之一，荷蘭方面表示對艾司摩爾設備實施出口管制之目標，是確保敏感技術不會被用於可能危及安全的情境。

對投資人而言，這意味著艾司摩爾面臨的風險不僅來自半導體產業的需求週期波動，還涉及國際政策協調與出口許可審查的不確定性。

不同業務領域面臨的風險層級也存在差異，EUV 設備的銷售空間早已受到長期限制，DUV 設備的市場覆蓋範圍相對更廣，但新的管制措施可能會改變其出貨規則與服務邊界，而服務收入通常具有較高的穩定性，不過若政策管制範圍延伸至服務領域，也會對未來收益的可預測性產生影響。

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