艾司摩爾
ASML今天
+2.27%
5天
+4.31%
1月
+36.51%
6月
+102.53%
今年開始到現在
+36.01%
1年
+104.19%
TradingKey 艾司摩爾股票評分
單位: USD 更新時間: 2026-01-28操作建議
艾司摩爾當前公司基本面數據相對非常健康，增長潛力很大。當前估值合理，在半導體與設備行業排名35/104位。機構持股佔比非常高，近一月多位分析師給出公司評級為買入。最高目標價為1255.87。中期看，股價處於上升通道。近一個月，市場表現很強，技術面和基本面綜合得分較高，很強的走勢得到基本面和技術面的印證。目前股價在壓力位和支撐位之間，可以做區間波段操作。
艾司摩爾評分
壓力支撐
多維評測
公司輿情
艾司摩爾亮點
艾司摩爾是一家位於荷蘭的控股企業。公司透過遍布荷蘭、美國、意大利、法國、德國、英國、愛爾蘭、比利時、韓國、臺灣、新加坡、中國、香港、日本、馬來西亞及以色列的子公司營運。其單一業務單元專注開發、製造、行銷、銷售、升級與服務先進半導體設備系統，涵蓋光刻、計量及檢測解決方案。公司推出的 TWINSCAN 系列光刻機以汞燈（i-line）、氪氟化物 (KrF) 與氬氟化物 (ArF) 為光源，可在極小解析度製程環境中加工晶圓，並提供 TWINSCAN 浸沒式光刻型號，同時為客戶提供全球裝機、培訓與持續技術支援，以確保設備長期保持最佳效能與良率與穩定高產能運行表現。此外，極紫外光 (EUV) TWINSCAN NXE 系列已被多家領先晶圓廠用於 7 奈米至 2 奈米節點量產，高數值孔徑 (High-NA) EXE 5000／5200 機型亦開始出貨，將支援 3 奈米以下世代的線寬縮減與良率提升。
分析師目標
艾司摩爾新聞
ASML財報：Q4新訂單132億創新高，客戶排到2027年！ASML股價為何反而轉跌？
TradingKey - 1月28日，艾司摩爾（ASML）公佈了2025年第四季及全年財報。Q4營收創下97億歐元的單季新高，其中部分來自2台High NA系統的收入認列。2025年全年營收達327億歐元，淨利潤96億歐元，均創歷史新高。財報公佈後，ASML美股大漲7%，歐股開盤上漲6%，但電話會議後卻分別收跌2.18%和1.9%。
晶片股週期來了？艾司摩爾財報前獲大摩、瑞銀上調目標價！Q4財報有3大關注點
TradingKey - 1月28日（週三）美股盤前，荷蘭曝光機龍頭艾司摩爾（ASML）將公佈2025年Q4財報及全年財報，並給出具體的2026年業績指引。華爾街大行摩根士丹利、瑞銀和摩根大通都上調其目標股價。然而，艾司摩爾依然需要回應這些質疑。
阿斯麥Q3財報前瞻：前景面臨考驗，訂單兌現與新指引成焦點
TradingKey - 阿斯麥將在10月15日歐洲中部時間7點公佈其第三季財報，阿斯麥歐股在一個多月內上漲了45%，9月成為歐洲市值最高的上市公司，錄得二十年來表現最好的單月。
阿斯麥ASML：火熱的英偉達，“暖不熱”清冷的光刻機？
阿斯麥(ASML.US) 於北京時間 2025 年 7 月 16 日下午的美股盤前發佈了 2025 年第二季度財報（截止 2025 年 6 月），要點如下：1、收入&毛利率：a）本季度收入 77 億歐元，同比增長 23.2%，市場預期（75 億歐元）。同比增長來源於，公司本季度確認了 1 臺 High NA EUV 的收入以及安裝升級服務收入的提升。b）本季度毛利率 53.7%，超公司指引（50-52%），主要是服務類佔比提升，對整體毛利率有結構性提振的影響，以及關稅的負面影響也弱於預期。2、費用端及利潤：公司研發費用和銷售管理費用都保持相對平穩，公司本季度實現淨利潤爲 23 億歐，...
阿斯麥2025財年Q2業績：實現突破性成長，交付高NA EUV，但2026年展望謹慎
阿斯麥公司（納斯達克：ASML）2025年7月16日發布2025財年第二季財報，強勁的淨銷售額和淨預訂量超出市場預期，但由於地緣政治不確定性帶來影響，公司對2026年的業績指導持謹慎態度，導致股價下跌約10%。
ASML 2025年第一季財報分析：穩健、謹慎與不確定性
儘管在高利潤率的EUV系統和嚴格的成本管理的推動下，ASML的財務狀況依然穩健，但宏觀經濟的不確定性，尤其是關稅，以及半導體需求的周期性放緩，還是引起一些對近期增長的擔憂。
財務指標
每股收益
營業總收入
艾司摩爾簡介
艾司摩爾是一家位於荷蘭的控股企業。公司透過遍布荷蘭、美國、意大利、法國、德國、英國、愛爾蘭、比利時、韓國、臺灣、新加坡、中國、香港、日本、馬來西亞及以色列的子公司營運。其單一業務單元專注開發、製造、行銷、銷售、升級與服務先進半導體設備系統，涵蓋光刻、計量及檢測解決方案。公司推出的 TWINSCAN 系列光刻機以汞燈（i-line）、氪氟化物 (KrF) 與氬氟化物 (ArF) 為光源，可在極小解析度製程環境中加工晶圓，並提供 TWINSCAN 浸沒式光刻型號，同時為客戶提供全球裝機、培訓與持續技術支援，以確保設備長期保持最佳效能與良率與穩定高產能運行表現。此外，極紫外光 (EUV) TWINSCAN NXE 系列已被多家領先晶圓廠用於 7 奈米至 2 奈米節點量產，高數值孔徑 (High-NA) EXE 5000／5200 機型亦開始出貨，將支援 3 奈米以下世代的線寬縮減與良率提升。
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