艾司摩爾
ASMLTradingKey 艾司摩爾股票評分
單位: USD 更新時間: 2026-06-24操作建議
艾司摩爾當前公司基本面數據相對非常健康，增長潛力很大。當前估值合理，在半導體與設備行業排名49/105位。機構持股佔比非常高，近一月多位分析師給出公司評級為買入。最高目標價為1743.10。中期看，股價處於上升通道。近一個月，市場表現較強，技術面和基本面綜合得分較高，較強的走勢獲得基本面和技術面的印證。目前股價在壓力位和支撐位之間，可以做區間波段操作。
艾司摩爾評分
壓力支撐
多維評測
公司輿情
艾司摩爾亮點
艾司摩爾是一家位於荷蘭的控股企業。公司透過遍布荷蘭、美國、意大利、法國、德國、英國、愛爾蘭、比利時、韓國、臺灣、新加坡、中國、香港、日本、馬來西亞及以色列的子公司營運。其單一業務單元專注開發、製造、行銷、銷售、升級與服務先進半導體設備系統，涵蓋光刻、計量及檢測解決方案。公司推出的 TWINSCAN 系列光刻機以汞燈（i-line）、氪氟化物 (KrF) 與氬氟化物 (ArF) 為光源，可在極小解析度製程環境中加工晶圓，並提供 TWINSCAN 浸沒式光刻型號，同時為客戶提供全球裝機、培訓與持續技術支援，以確保設備長期保持最佳效能與良率與穩定高產能運行表現。此外，極紫外光 (EUV) TWINSCAN NXE 系列已被多家領先晶圓廠用於 7 奈米至 2 奈米節點量產，高數值孔徑 (High-NA) EXE 5000／5200 機型亦開始出貨，將支援 3 奈米以下世代的線寬縮減與良率提升。
分析師目標
艾司摩爾新聞
艾司摩爾聯合荷蘭TNO推進光子晶片量產，曝光機巨頭加速佈局下一代運算
TradingKey - 美東時間6月24日，艾司摩爾（ASML）與荷蘭應用科學研究組織（TNO）宣布合作，共同推動光子積體電路產業化。雙方將圍繞TNO在恩荷芬高科技園區建置的光子晶片試產線展開技術協同。
SpaceX IPO前夜馬斯克宣布550億美元晶片計劃，艾司摩爾成關鍵供應商，股價大漲9.53%
TradingKey - 美東時間6月11日，就在SpaceX進行有史以來最大規模IPO之際，公司執行長馬斯克以視訊方式現身荷蘭艾司摩爾年度技術大會，向艾司摩爾員工闡述其進軍半導體製造領域的計畫。受此消息提振，艾司摩爾股價當日收漲9.53%，報1899.48美元，創52週新高。
蘋果英特爾談合作 ASML最高將獲得46億歐元設備採購訂單！ASML將成為晶片熱最大受益者？
TradingKey - 本月稍早，蘋果與英特爾達成初步協議，英特爾將代工生產蘋果裝置所用的部分晶片。對此，美國銀行在最新分析中指出，這一合作價值可能高達 100 億美元，且最大受惠者可能是荷蘭半導體設備巨頭艾司摩爾（ASML）和半導體封裝設備製造商 BE Semiconductor。
費城半導體指數17連升破一萬點 德銀警告全球氦氣供應鏈風險
TradingKey - 4月23日，費城半導體指數突破10000點整數關口，收穫17連漲創歷史最長連漲紀錄，累計漲幅超41%。自2月28日衝突以來至今，該指數的累計漲幅也高達24%。以近20個交易日來看，成份股中的Credo Technology以高達78.56%的最高累計漲幅奪得頭籌，艾司摩爾則以1.72%的累計漲幅在成份股中墊底。對應同期，邁威爾科技累計漲幅達68.25%，英特爾漲幅為4.15%，AMD漲幅為38.62%，博通漲幅為31.72%，美光漲幅為26.13%，輝達漲幅為11.73%，台積電漲幅為10.04%。
【美股盤前】美伊局勢反覆引發風險資產「大撤退」，輝達量子模型與特斯拉 AI5 晶片領銜硬體革命
避險資產高位跳水，特斯拉宣佈 AI5 成功流片，輝達發布量子 AI 模型，SEC 廢除日內交易門檻激勵 Robinhood，ASML 業績亮眼調升 2026 營收指引
晶片需求供不應求，艾司摩爾Q1業績超預期，上調全年指引盡顯增長底氣
TradingKey - 全球曝光機龍頭艾司摩爾（ASML）於4月15日披露2026年第一季業績，核心指標全線超出市場預期，並上調全年銷售指引，但第二季展望略遜於市場共識。
財務指標
每股收益
營業總收入
艾司摩爾簡介
艾司摩爾是一家位於荷蘭的控股企業。公司透過遍布荷蘭、美國、意大利、法國、德國、英國、愛爾蘭、比利時、韓國、臺灣、新加坡、中國、香港、日本、馬來西亞及以色列的子公司營運。其單一業務單元專注開發、製造、行銷、銷售、升級與服務先進半導體設備系統，涵蓋光刻、計量及檢測解決方案。公司推出的 TWINSCAN 系列光刻機以汞燈（i-line）、氪氟化物 (KrF) 與氬氟化物 (ArF) 為光源，可在極小解析度製程環境中加工晶圓，並提供 TWINSCAN 浸沒式光刻型號，同時為客戶提供全球裝機、培訓與持續技術支援，以確保設備長期保持最佳效能與良率與穩定高產能運行表現。此外，極紫外光 (EUV) TWINSCAN NXE 系列已被多家領先晶圓廠用於 7 奈米至 2 奈米節點量產，高數值孔徑 (High-NA) EXE 5000／5200 機型亦開始出貨，將支援 3 奈米以下世代的線寬縮減與良率提升。
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