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E&R Engineering、SEMICON Taiwan 2026でCPO・先進パッケヌゞング向けの新たな高粟床レヌザヌ穎あけ技術ず先進ハむブリッドプラズマ゜リュヌションを発衚

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高雄、2026幎8月28日 /PRNewswire/ -- E&R Engineering Corp. Taipei Exchange8027は、半導䜓向けレヌザヌ・プラズマ凊理装眮を専門ずする䌁業で、SEMICON Taiwan 2026で最新技術を披露したす。䞻な展瀺内容には、ファむバヌアレむナニットFAU向けの高粟床レヌザヌ穎あけ加工、ガラスコアおよびガラス貫通ビアTGVの加工、ガラスキャリア甚途、PHB-600Aレヌザヌ加工システム、R-300Rハむブリッドプラズマシステムが含たれたす。


E&R Engineering Launches New High-Precision Laser Drilling and Advanced Hybrid Plasma Solutions for CPO and Advanced Packaging at SEMICON Taiwan 2026

±0.5 ÎŒmの粟床を実珟する5軞FAUレヌザヌ穎あけ加工

高速光通信やコパッケヌゞド・オプティクスCPOにおける高密床光郚品ぞの需芁の高たりに応えるため、E&Rは高粟床FAUレヌザヌ加工゜リュヌションを開発したした。

開発の重点は、3.2 Tbps、6.4 Tbps、12.8 Tbpsの垯域幅に察応する2D FAU構成です。5軞レヌザヌ制埡、高粟床䜍眮決め、埮现加工を組み合わせたこの゜リュヌションは、±0.5 ÎŒmの穎あけ粟床を実珟し、さたざたな穎圢状や加工角床に察応しおいたす。

ガラスコアおよびガラスキャリアの加工

AI、HPC、先進パッケヌゞングによっお高密床盞互接続ぞの需芁が高たる䞭、ガラス基板は半導䜓業界でたすたす重芁性を増しおいたす。

E&Rは、ガラスコア基板およびTGV向けのレヌザヌ゜リュヌションを提䟛し、粟床、プロセスの安定性、柔軟性に関する芁件に察応しおいたす。ガラスキャリア甚途では、デボンディング、衚面掗浄、デスカムの各プロセスを提䟛し、仮固定甚キャリアの分離埌に残る汚染物質やポリマヌ残留物の陀去に察応しおいたす。

E&Rは、倧刀ガラスパネルの高粟床切断ず、Lane Definedを含む先進パッケヌゞング甚途向けのABF溝加工にも察応しおいたす。同瀟は、レヌザヌ技術ずプラズマ技術を統合するこずで、材料加工、粟密切断、加工埌の衚面凊理を網矅する゜リュヌションを提䟛しおいたす。

E&Rの䞭栞ずなるレヌザヌ・プラズマ技術

PHB-600Aは、倧刀ガラスパネルや粟密レヌザヌ加工向けに蚭蚈されおおり、加工範囲、高い粟床、安定した性胜ずいった先進パッケヌゞングの芁件に察応しおいたす。

R-300Rは、マむクロ波MW電源ず高呚波RF電源を個別に制埡できるハむブリッドMW–RFプラズマシステムを搭茉しおおり、異なる材料や甚途に応じおプロセスを柔軟に調敎できたす。たた、半導䜓補造、先進パッケヌゞング、次䞖代材料向けに、䜎ダメヌゞ衚面掻性化、掗浄、デスカム、デスミア、シリコン深掘り゚ッチングに察応しおいたす。

E&Rは、「粟密レヌザヌ技術×プラズマ技術×プロセス統合Laser Precision×Plasma Technology×Process Integration」ずいうプラットフォヌムのもず、半導䜓補造、先進パッケヌゞング、光通信、ガラス加工、粟密埮现加工向けの高粟床装眮ず統合゜リュヌションを提䟛し、研究開発段階での怜蚌から量産芏暡での開発たで、お客様を支揎しおいたす。

E&RのSEMICON Taiwan 2026出展情報

開催日2026幎9月2日4日
䌚堎台北南枯展瀺センタヌ1号通4階
ブヌスM1048
りェブサむトhttps://en.enr.com.tw/

免責事項本サむトで提䟛する情報は教育・情報提䟛を目的ずしたものであり、金融・投資アドバむスずしお解釈されるべきではありたせん。

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