ASML kooperiert mit der niederländischen TNO beim Vorantreiben der Massenproduktion photonischer Chips, Lithografie-Riese beschleunigt Vorstoß in das Computing der nächsten Generation

TradingKey – Am 24. Juni US-Ostküstenzeit gab ASML ( ASML) und die Niederländische Organisation für Angewandte Naturwissenschaftliche Forschung (TNO) eine Partnerschaft bekannt, um gemeinsam die Industrialisierung photonischer integrierter Schaltkreise voranzutreiben. Beide Parteien werden eine technische Zusammenarbeit rund um die von der TNO auf dem High Tech Campus Eindhoven errichtete Pilotlinie für photonische Chips durchführen.

Die Pilotlinie für photonische Chips ist eine Kernanlage im Rahmen des EU-Projekts PIXEurope. Der Bau begann Anfang 2026 mit dem Ziel, die Massenproduktionskapazität für photonische Indiumphosphid (InP)-Chips auf 6-Zoll-Wafer-Ebene zu erreichen. Im Rahmen der Vereinbarung wird ASML phasenweise DUV- und I-Line-Lithografiesysteme sowie Prozessunterstützung bereitstellen. ASML ist ein weltweit führender Anbieter von Lithografietechnologie, und die von dem Unternehmen bereitgestellten Anlagen und Prozessunterstützungen gehören zu den Schlüsselelementen für eine stabile Massenproduktion photonischer Chips.

Photonische Chips ersetzen elektrische Signale durch optische Signale zur Datenübertragung und bieten hohe Geschwindigkeit, geringen Energieverbrauch, Immunität gegen elektromagnetische Störungen sowie eine hohe Bandbreite. Durch die steigende Nachfrage nach KI-Rechenleistung treten die Engpässe elektrischer Chips bei der Wärmeableitung und Bandbreite immer deutlicher hervor. Das Marktforschungsunternehmen Yole prognostiziert, dass der weltweite Markt für Silizium-Photonik von 278 Millionen US-Dollar im Jahr 2024 auf 2,7 Milliarden US-Dollar im Jahr 2030 anwachsen wird, was einer durchschnittlichen jährlichen Wachstumsrate (CAGR) von 46 % entspricht. Ein einzelner 6-Zoll-Indiumphosphid-Wafer kann eine höhere Chipausbeute liefern, was zur Senkung der Stückkosten beiträgt.

Mit Blick auf die strategischen Erwägungen hinter dem Projekt geht die Bedeutung dieser Zusammenarbeit über die eigentliche Anlage hinaus. Die Aufgabe der Pilotproduktionslinie besteht darin, eine Brücke zwischen der Laborforschung und der industriellen Fertigung zu schlagen. TNO wird die Anlage fünf Jahre lang betreiben, bevor sie je nach Rahmenbedingungen als Massenproduktionsbasis an die Industrie übergeben wird.

Aus europäischer Sicht fällt das Projekt unter den Rahmen des EU-Chips-Gesetzes (EU Chips Act). Europa hofft, eine offene, gemeinschaftlich genutzte Fertigungsplattform im Bereich der photonischen Chips zu etablieren, die von verschiedenen Unternehmen und Forschungseinrichtungen genutzt werden kann. Angesichts häufiger Schwankungen in der globalen Halbleiter-Lieferkette versucht Europa, sich über das neue Segment der photonischen Chips eine proaktivere Position in der künftigen High-Tech-Fertigungslandschaft zu sichern.

Für ASML liegt die Kernkompetenz bei den Lithografiesystemen, doch die Chipindustrie tritt in die Post-Moore-Ära ein, in der traditionelle Technologiepfade allmählich an physikalische Grenzen stoßen und sich neue Richtungen eröffnen. Durch das Engagement bei der Massenproduktion photonischer Chips erweitert ASML nicht nur die Anwendungsszenarien für sein bestehendes Geschäft, sondern positioniert sich auch frühzeitig in der längerfristigen Industrielandschaft.

Die großflächige Industrialisierung photonischer Chips steht jedoch noch vor Herausforderungen wie geringer Testeffizienz, komplexem Packaging und komplexer Integration sowie hohen Anfangskosten. Der High Tech Campus Eindhoven vereint bereits Start-ups, Forschungseinrichtungen und Hochschuleinrichtungen aus dem PhotonDelta-Ökosystem.