ASML Q3財報前瞻：營收或年增55%，華爾街最高看至2866美元

艾司摩爾先前預估，第三季營收將介於 110 億至 120 億歐元之間，毛利率為 55% 至 57%；已裝機設備管理業務收入預計約為 29 億歐元，研發費用與銷管費用分別約為 12 億與 4 億歐元。

根據市場約 116 億至 118 億歐元的預估，第三季營收將接近公司財測區間的中高端，相較於第二季的 93.3 億歐元明顯成長。與 2025 年同期 75 億歐元的營收相比，增幅可能超過 50%。市場對美國存託憑證每股盈餘的預估約為 12.1 至 12.5 美元，同樣反映出產品組合改善及營收規模擴大的影響。

第二季，艾司摩爾營收達 93.3 億歐元，淨利為 29.2 億歐元，基本每股盈餘為 7.59 歐元。已裝機設備管理收入達到 27.6 億歐元，高於管理階層原先預期，推升毛利率至 54%。這項業務涵蓋設備維護、軟體升級與生產效率優化，收入穩定性通常高於新設備銷售，也是艾司摩爾利潤率的重要支撐。

由於第三季的營收成長已被市場充分預期，單純達到 116 億歐元左右可能不足以明顯推升股價。投資人更希望看到毛利率接近 57% 的財測上限，以及服務與升級收入持續超越預期。如果營收接近 120 億歐元，同時毛利率保持強勁，說明高價值 EUV 系統與升級業務正在改善整體產品結構。

ASML 當季確認的營收主要來自數月甚至數年前簽訂的設備訂單，因此淨訂單量更能反映未來需求。第三季 EUV 與 High-NA EUV 訂單的變化，很可能成為決定財報後股價走向的關鍵。

ASML 是全球唯一能夠商業化大規模供應 EUV 曝光機的公司，台積電、三星、英特爾與記憶體廠商擴建先進製程時，都需要增加 EUV 設備。AI 加速器、客製化晶片及 HBM 需求快速成長，正在推動先進邏輯與 DRAM 廠商提高資本支出。

公司先前表示，2026 年低數值孔徑 EUV 產能約為 65 台，計劃 2027 年提高約 30%，並研究在 2028 年進一步擴充 30%。DUV 浸潤式曝光機也採取相似的擴產路線，2026 年產能約為 130 台。管理階層表示，2027 年的低數值孔徑 EUV 產能已接近被客戶訂單涵蓋，2028 年也獲得了大量採購承諾。

High-NA EUV 則是 ASML 長期成長空間的核心，該設備單價可能達到約 4 億美元，能夠提高先進製程的解析度，並減少部分晶片製造環節所需的多重曝光次數。英特爾先前已在部分 18A 產品層面完成 High-NA EUV 製程資格認證，說明這項技術正從研發驗證逐步向量產應用推進。

第三季財報需要回答的重點是 High-NA 設備的出貨和營收確認速度，以及台積電、三星和英特爾是否加快採用。若客戶部署時間提前，ASML 的平均銷售價格與長期營收上限可能進一步提高。

艾司摩爾在第二季財報中將 2026 年營收指引由先前的 360 億至 400 億歐元，大幅上調至 430 億至 450 億歐元，同時將全年毛利率預期提高至 54% 至 56%。這項調整顯示，AI 基礎設施投資正持續轉化為先進邏輯與記憶體產能需求，台積電、三星、SK 海力士及美光等客戶的擴產計劃，也在改善艾司摩爾未來數年的訂單能見度。

華爾街對艾司摩爾的長期前景整體保持樂觀。根據 TipRanks 統計，過去三個月追蹤該股的 6 位分析師中，均給出了「買進」評等，其 12 個月平均目標價為 2470.81 美元，最高預測為 2865.89 美元，最低為 2100 美元。以最新收盤價 1780.34 美元計算，平均目標價對應約 38.78% 的潛在上漲空間。

來源：TipRanks

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