High-NA EUVの量産開始やトランプ氏のINTC株価チャート再投稿を受け、インテル株が時間外取引で100ドル突破

9月8日、インテルとASML（ASML）は、High-NA EUV量産化に関する最新の進捗を発表した。両社は、High-NA EUVが現在インテルの量産プロセスで使用されていると述べた。

［出所：インテル］

インテルは、High-NA EUVを最も早期に導入した半導体メーカーの1社である。2024年、インテルとASMLはオレゴン州の研究開発施設において、業界初となる商用High-NA EUV露光装置の統合を完了した。それ以来、インテルは装置の認定、テスト、プロセス研究開発を進め、実際の製品製造にHigh-NA EUVを組み込んできた。

インテルによると、これまでにHigh-NA EUVで処理されたウェハの累計枚数は100万枚を超えており、これには初期の装置認定やテスト、研究開発、および「Core Ultra Series 3（開発コード名：Panther Lake）」プロセッサの特定の層における大量生産が含まれている。

現在、High-NA EUVは、一部のPanther Lakeプロセッサにおける特定のIntel 18Aプロセス層の大量生産に使用されている。インテルは、High-NA EUVを用いて製造された該当する18A層が、0.33 NAのNXE EUVプラットフォームを用いて製造された同等の層と同等以上の性能を達成したと述べた。また、現在のHigh-NA装置の重ね合わせ精度、スループット、稼働率は、同社の期待を満たしていると説明した。

High-NA EUVは、既存のEUVプラットフォームにおける開口数を0.33から0.55に引き上げることで、より高い露光解像度を実現する。ASMLは、EXE High-NAプラットフォームにより先端半導体の量産における特定の工程数を削減でき、これにより欠陥の減少、コスト削減、サイクルタイムの短縮が可能になると述べた。

ASMLのクリストフ・フーケCEOは、インテルが業界におけるHigh-NA導入を牽引する主要企業の一つであると述べた。2024年の最初の商用EXEシステムの設置から、最新世代装置の認定完了、High-NAで製造された初の量産ロジック製品の出荷に至るまで、インテルはロジック半導体量産へのHigh-NA EUV適用で主導的な役割を果たしてきた。

トランプ米大統領は9月6日、AIが生成した画像をTruth Socialに投稿した。その画像内の取引画面には「購入：インテル 20ドル」「現在：95ドル」と表示されていた。

トランプ氏はまた、個人的な利益のためではなく、株式やその他の資産の保有を通じて米国のために「数千億ドル」を獲得したと主張したが、この数値を裏付ける具体的な根拠は示さなかった。

[出所：Truth Social]

現在、インテルのサーバー向けCPU需要は供給能力を上回る状態が続いている。一方で、一部のCore Ultraシリーズ3（開発コード名：Panther Lake）プロセッサにおけるインテル18Aプロセスの特定層の量産には、すでにHigh-NA EUVが使用されている。

今後は、サーバー向けCPUの供給が改善するか、そして18AおよびHigh-NA EUVの採用がさらに拡大するかどうかが、インテルの製品供給と先端製造プロセスの進展を見極めるうえでの重要な注目点となる。

このコンテンツはAIを使用して翻訳され、明確さを確認しました。情報提供のみを目的としています。