长鑫存储推进DRAM新架构引市场忧虑,Elon Musk指中国规模化制造能力或重塑DRAM格局
市场正密切关注中国DRAM制造商推进高密度记忆体架构对传统DRAM供应及价格的潜在冲击。长鑫存储计划在2026年底前推出4F²架构的DDR5产品,若能解决良率与规模化难题,将有效降低制造成本并增强价格竞争力。分析指出,传统RAM因高度标准化较易实现产能扩张,但新一代HBM等复杂架构仍面临技术与散热挑战。

Tradingkey - 市场对中国DRAM制造商长鑫存储推进更高密度记忆体架构的忧虑升温,投资者开始重新评估中国厂商对传统DRAM供应、价格与市场份额的潜在影响。
特斯拉(TSLA)及SpaceX(SPCX)创始人马斯克(Elon Musk)在社交平台X表示,当中国掌握一项产品的制造方法后,其规模化能力远超全球其他地区。他以锂电池与太阳能产品为例,认为中国在制造规模化方面具备明显优势;SpaceX则是少数例外,因为美国在火箭发射领域的入轨质量仍远高于全球其他地区。
马斯克进一步指出,记忆体可能也会沿着类似路径发展。他认为,RAM在几年前仍被视为低毛利的大宗商品,而LP5、LP6等标准化产品的设计,本身就有利于不同厂商之间进行大规模生产。如果中国厂商能快速解决制造与良率问题,传统RAM市场的竞争格局可能出现更大变化。
这番言论发布之际,长鑫存储正加速推进新一代DRAM架构。公司已表示,预计于2026年底推出采用4F²架构的新一代DDR5 RDIMM产品。相较于目前主流的66F²架构,4F²可缩小单一记忆体储存单元的面积,理论上有助于在同一片晶圆上配置更多储存单元。

【来源:X】
对DRAM制造商而言,这项技术的核心价值并不只在于提高容量,也在于改善成本结构。如果长鑫存储能够在量产中维持稳定良率,单片晶圆的有效位元产出便有望增加,进而降低每个位元的制造成本。这可能让公司在价格竞争中取得更大弹性,或在相同售价下改善利润率。
不过,马斯克的发言也反映出市场正在区分不同类型的记忆体产品。他认为,传统RAM的标准化程度较高,制造能力与产能扩张可能是竞争关键;但新一代HBM,以及逻辑电路下方配置SRAM、将记忆体三维堆叠于逻辑晶片上方等架构,仍面临更高的整合与散热难题。












