High-NA EUV 양산 돌입에 인텔 주가 개장 전 100달러 돌파, 트럼프 INTC 주가 차트 다시 게시

9월 8일, 인텔과 ASML(ASML)은 High-NA EUV 대량 양산의 최신 진행 상황을 발표했다. 양사는 High-NA EUV가 현재 인텔의 양산 공정에 사용되고 있다고 밝혔다.

[출처: 인텔]

인텔은 High-NA EUV를 가장 먼저 도입한 반도체 기업 중 하나다. 2024년 인텔과 ASML은 오레곤 R&D 시설에서 업계 최초의 상용 High-NA EUV 노광 시스템 구축을 완료했다. 이후 인텔은 장비 검증, 테스트, 공정 R&D를 지속적으로 추진하며 실제 제품 제조에 High-NA EUV를 적용해 왔다.

인텔은 초기 장비 검증 및 테스트, R&D, 특정 코어 울트라 시리즈 3(코드명 팬서 레이크) 프로세서의 특정 레이어 양산을 포함해 현재까지 High-NA EUV로 처리한 웨이퍼 수가 누적 100만 장을 넘었다고 밝혔다.

현재 High-NA EUV는 일부 팬서 레이크 프로세서의 특정 인텔 18A 공정 레이어 양산에 사용되고 있다. 인텔은 High-NA EUV를 사용해 제조된 해당 18A 레이어가 0.33 NA NXE EUV 플랫폼으로 생산된 동등한 레이어와 유사하거나 이를 뛰어넘는 성능을 달성했다고 밝혔다. 또한 인텔은 현재 High-NA 장비의 오버레이 정밀도, 처리량, 가동률이 회사의 기대치에 부합한다고 덧붙였다.

High-NA EUV는 개구수(NA)를 기존 EUV 플랫폼의 0.33에서 0.55로 올려 더 높은 노광 해상도를 구현한다. ASML은 EXE High-NA 플랫폼이 첨단 반도체 양산의 일부 공정 단계를 줄여 결함, 비용, 주기 시간을 낮출 수 있다고 설명했다.

크리스토프 푸케 ASML 최고경영자(CEO)는 인텔이 업계의 High-NA 도입을 이끄는 주요 기업 중 하나라고 밝혔다. 인텔은 2024년 첫 상용 EXE 시스템 설치부터 최신 세대 장비의 검증 완료, High-NA로 제조된 최초의 양산형 로직 제품 출하에 이르기까지 로직 반도체 양산에 High-NA EUV를 적용하는 데 선도적인 역할을 해왔다.

트럼프 미국 대통령은 9월 6일 트루스 소셜에 거래 화면에 "매수: 인텔 $20", "현재가 $95"라고 표시된 AI 생성 이미지를 게시했다.

또한 트럼프 대통령은 개인적 이익이 아닌 주식 및 기타 자산 보유를 통해 미국을 위해 "수천억 달러"를 벌어들였다고 주장했으나, 이 수치를 뒷받침할 구체적인 근거는 제시하지 않았다.

[출처: 트루스 소셜]

현재 인텔의 서버용 CPU 수요는 공급 가능량을 웃돌고 있으며, 한편 High-NA EUV는 일부 코어 울트라 시리즈 3(코드명 팬서 레이크) 프로세서의 특정 인텔 18A 공정 레이어 양산에 이미 도입되었다.

향후 서버용 CPU 공급이 개선될지 여부와 18A 및 High-NA EUV의 적용이 더욱 확대될 수 있을지가 인텔의 제품 공급 및 첨단 제조 공정 진척 상황을 지켜보는 핵심 관전 포인트가 될 것이다.

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