每日科創|中微公司（688012）：60歲創業到市值超3000億

2004年，60歲的尹志堯放棄美國應用材料公司副總裁的職位，帶着15人的團隊回國創業。彼時，中國的芯片刻蝕設備幾乎是一片空白。22年後，這家公司以123.85億元的營收站上了全球半導體設備製造商前列，截至發稿，中微公司市值已超過3000億元。在科創板開市七週年之際回望，中微公司的故事或許是理解中國半導體產業從0到1最生動的樣本。

主營業務：刻蝕是減法，中微做成了乘法

如果把芯片製造比作雕刻，光刻是畫圖，刻蝕就是雕琢——用等離子體把不需要的材料一層層剝離，在晶圓上刻出納米級的電路。中微公司做的，正是這件事。

2025年年報顯示，公司全年實現營業收入123.85億元，同比增長36.62%，在過去十四年營收年均增速超35%的基礎上再創歷史新高。歸屬於上市公司股東的淨利潤達21.11億元，同比增長30.69%。

刻蝕設備依然是壓艙石。而更值得關注的是，公司自主研發的CCP高能等離子體刻蝕設備和ICP低能等離子體刻蝕設備，已實現對95%以上、超過300種刻蝕應用需求的覆蓋。其中，60比1超高深寬比刻蝕設備在存儲器生產線上實現穩定大批量生產，使中微成爲國內極少數能夠全面覆蓋存儲器刻蝕超高深寬比需求的供應商。

真正讓市場眼前一亮的是第二增長曲線的爆發。2025年，中微薄膜沉積設備營收同比增長約224.23%，達到5.06億元。尹志堯曾直言：一個半導體設備公司如果只開發刻蝕設備，而沒有薄膜設備，其發展空間就會受到限制。如今這句話正在變成現實——從刻蝕的減法到薄膜的加法，中微正在把單一品類的優勢做成了平臺化的乘法。

科創屬性：持續進行研發投入

科創屬性的底色，最終要落到真金白銀的投入上。2025年，中微公司研發投入達37.44億元，同比增長約52.65%，佔營業收入比重超過30%。這個數字遠高於科創板上市公司10%到15%的平均水平。高強度的研發投入直接推動了產品迭代速度——新設備開發週期從傳統的3到5年縮短至2年以內。

目前，中微正在推進六大類、超過20款新設備的研發，涵蓋新一代CCP刻蝕設備、ICP刻蝕設備、LPCVD及ALD薄膜設備、晶圓邊緣刻蝕設備等多個方向。2025年，公司全年保持100%的按時交付率。

這些數字背後是一個樸素的邏輯：半導體設備行業沒有捷徑，只有靠持續的技術積累才能穿越週期。中微用超過30%的營收佔比押注研發，錨定的是未來五到十年的技術領先。

投資邏輯與風險：兩條腿走路，能走多遠

投資中微的邏輯，本質上是在看好兩個趨勢：國產替代的深化，以及平臺化戰略的兌現。

更大的想象空間來自平臺化佈局。2025年底，中微發起對杭州衆硅的收購，試圖從幹法刻蝕向幹法+溼法整體解決方案跨越。公司計劃在未來五到十年，將前道集成電路關鍵設備覆蓋度從30%提升至60%以上，先進封裝設備覆蓋70%以上。從刻蝕到薄膜，從幹法到溼法，從集成電路到泛半導體——中微正在從一家刻蝕設備公司，向平臺型半導體設備集團進化。

硬幣總有另一面。中微的高增長背後，風險同樣不容忽視。

首先是是行業競爭的加劇。中國半導體設備行業正經歷激烈的內卷。尹志堯在2025年的一次公開演講中列舉了15種行業內卷形式，直言垂直整合壟斷帶來不公平競爭。隨着越來越多國內設備商切入刻蝕和薄膜沉積賽道，價格戰的風險正在上升。

其次是外部環境的不確定性。下游晶圓廠擴產節奏、國際貿易摩擦、先進工藝驗證進度——任何一個變量的波動都可能影響中微的訂單和交付。

結語

從2004年15人的創業團隊，到2025年全球員工2963人、營收突破123億元，中微公司用二十餘年時間走完了國外巨頭半個世紀的路。但半導體設備的賽道從來不是百米衝刺，而是一場沒有終點的馬拉松。中微的故事，本質上是中國科技產業從追趕到並跑，再到局部領跑的一個縮影。這條路還很長，但方向已經清晰。