【券商聚焦】 國金證券:AI光模塊+NV-CoWoP預計將帶動mSAP-PCB快速擴容
金吾財訊 | 國金證券研究認爲,mSAP工藝適用於線寬線距要求高的應用場景(線寬/線距可達15um以下),技術難點環節主要在基銅、電鍍、閃蝕等。mSAP最初應用場景主要爲消費電子,AI光模塊+NV-CoWoP預計將帶動mSAP-PCB快速擴容。mSAP-PCB對於上游材料的拉動方面,該機構建議關注①直寫光刻,②電鍍線,③載體銅箔,④藥水,⑤low-CTE電子布,⑥low-dk二代布、HVLP4銅箔等方向。
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