本土企業推進深紫外光刻機研發 美股半導體設備股走低 ASML（ASML）跌7.09%

金吾財訊 | 據知情人士報道，一家總部位於上海、獲得國內政策支持的未具名企業，已經啓動深紫外光刻機（DUV）的研發製造工作。消息傳出後，全球光刻機龍頭ASML（ASML）早盤股價下跌7.09%，AXT Inc（AXTI）跌4.83%，庫力索法半導體（KLIC）跌5.16%，科磊（KLAC）跌5.20%，應用材料（AMAT）跌5.57%，SmartKem（SMTK）跌5.97%，安霸（AMBA）跌6.33%，泛林集團（LRCX）跌6.82%。

受現行美國出口管制約束，最先進半導體設備難以流入國內市場，推動本土企業加速自主技術攻關。報道顯示，國內DUV光刻機項目尚處在發展早期，企業規劃本年度生產5臺相關設備，明年最大產能目標爲20臺；與此同時國內極紫外光刻機（EUV）研發仍停留在原型階段，距離實現量產還有數年時間。

從ASML經營數據來看，其二季度淨系統銷售額當中14%來自中國市場，相比一季度19%有所回落。不過公司首席財務官R.J.M.Dassen在業績電話會維持預期，中國業務全年仍將貢獻集團淨銷售額約20%，並會伴隨整體業務擴張持續增長，需求支撐主要來自主流邏輯芯片產業需求上行。

國內對於光刻機產業佈局由來已久，早在2002年便將光刻機列爲重點發展賽道。2022年美國出臺先進設備出口限制之後，國內產業發展模式有所調整，由單一國家主導研發轉向國家與民營企業協同推進。短期來看本土先進光刻設備距離大規模商業化仍存在明顯差距，長期層面設備自主化進程持續推進，也成爲海外半導體設備廠商無法忽視的行業變量。