消息稱三星2nm工藝良率已突破60%，與臺積電基本持平

金吾財訊 | 三星在半導體制造領域取得突破，其先進的2納米工藝良率近期已突破60%。這一進展將使該公司能夠以更低成本生產更多高性能芯片，同時吸引新客戶。據報道，三星2納米工藝的良率在短短兩個季度內增長了兩倍多。去年下半年，該工藝良率僅約 20%，導致晶圓上的大部分芯片無法使用。如今良率突破60%，三星已與臺積電的良率水平基本持平。據悉，行業龍頭臺積電的2納米工藝良率在60%至70%之間。